森勇藏 (Yuzo Mori) - マイポータル

基本情報

所属: 大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター大阪大学大学院工学研究科附属超精密科学研究センター名誉教授（大阪大学）,客員教授

学位: 工学博士(大阪大学)

J-GLOBAL ID: 200901045289632257
researchmap会員ID: 1000030572

研究キーワード

研究分野

経歴

1983年 - 2003年

大阪大学教授
2003年

- 大阪大学客員教授
2003年

- 大阪大学名誉教授
1971年 - 1983年

大阪大学助教授
1971年 - 1983年

大阪大学
1983年

- Osaka University, Professor
1970年 - 1971年

大阪大学講師
1970年 - 1971年

大阪大学
1963年 - 1970年

大阪大学助手
1963年 - 1970年

Osaka University, Research Assistant

学歴

- 1963年

大阪大学, 工学部, 精密工学科
- 1963年

大阪大学

委員歴

受賞

MISC

335

大気圧プラズマCVD法によるアモルファスSiCの高速成膜に関する研究(第3報)-高速形成a-Si薄膜の電気・光学特性-

森勇藏, 芳井熊安, 安武潔, 垣内弘章, 木山精一, 樽井久樹, 堂本洋一

精密工学会誌 67(5) 829-833 2001年
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工

表面科学 22(3) 160-166 2001年
Li原子ビームのレーザコリメーション

大参宏昌, 安武潔, 清水正男, 垣内弘章, 竹内昭博, 芳井熊安, 森勇藏

精密工学会誌 67(3) 433-437 2001年
プラズマCVMによる機能材料の切断加工-内周刃型切断加工装置の試作とその切断加工特性-

森勇藏, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌 67(2) 295-299 2001年
数値制御プラズマCVMによるX線ミラーの加工に関する研究(第1報)-X線ミラー加工用装置の開発-

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久

精密工学会誌 67(1) 131-136 2001年
Ultra-precision Machining by Plasma CVM

22(3) 160-166 2001年
The Study of Fabrication of the X-ray Mirror by Numerically Controlled Plasma CVM(1st Report)-Development of the Machine for the X-ray Mirror Fabrication-

Journal of the Japan Society for Precision Engineering 67(1) 131-136 2001年
Cutting og Functional Material by Plasma CVM-Development of the Cutting Machine with Inner Blade Electrode and Its Cutting Characteristics-

Yuzo MORI, Kazuto YAMAUCHI, Kazuya YAMAMURA, Yasuhisa SANO

Journal of the Japan Society for Precision Engineering 67(2) 295-299 2001年
大気圧プラズマCVD法によるアモルファスSiの高速成膜に関する研究(第3報) : 高速形成a-Si薄膜の電気・光学特性

森勇藏, 芳井熊安, 安武潔, 垣内弘章, 木山精一, 樽井久樹, 堂本洋一

精密工学会誌 67(5) 829-833 2001年
Li原子ビームのレーザコリメーション

大参宏昌, 安武潔, 清水正男, 垣内弘章, 竹内昭博, 芳井熊安, 森勇藏

精密工学会誌 67(3) 433-437 2001年
Velocity spectrometer for a neutral atomic beam

K Yasutake, H Ohmi, M Shimizu, A Takeuchi, H Kakiuchi, K Yoshii, Y Mori

APPLIED PHYSICS B-LASERS AND OPTICS 71(6) 787-793 2000年12月
Development of plasma chemical vaporization machining

Y Mori, K Yamauchi, K Yamamura, Y Sano

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 71(12) 4627-4632 2000年12月
The study of fabrication of the x-ray mirror by numerically controlled plasma chemical vaporization machining: Development of the machine for the x-ray mirror fabrication

Y Mori, K Yamamura, Y Sano

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 71(12) 4620-4626 2000年12月
Velocity spectrometer for a neutral atomic beam

K Yasutake, H Ohmi, M Shimizu, A Takeuchi, H Kakiuchi, K Yoshii, Y Mori

APPLIED PHYSICS B-LASERS AND OPTICS 71(6) 787-793 2000年12月
Atmospheric pressure plasma chemical vapor deposition system for high-rate deposition of functional materials

Y Mori, K Yoshii, H Kakiuchi, K Yasutake

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 71(8) 3173-3177 2000年8月
Atmospheric pressure plasma chemical vapor deposition system for high-rate deposition of functional materials

Y Mori, K Yoshii, H Kakiuchi, K Yasutake

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 71(8) 3173-3177 2000年8月
Scanning tunneling microscopy study of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after wet cleaning

K Arima, K Endo, T Kataoka, Y Oshikane, H Inoue, Y Mori

SURFACE SCIENCE 446(1-2) 128-136 2000年2月
Scanning tunneling microscopy study of hydrogen-terminated Si(001) surfaces after wet cleaning

K Arima, K Endo, T Kataoka, Y Oshikane, H Inoue, Y Mori

SURFACE SCIENCE 446(1-2) 128-136 2000年2月
First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Etching Process by OH Molecules

Technology Reports of the Osaka University 50 33-40 2000年
Modeling and simulation of figuring processes for ultra-smooth and ultra-precise surface

O plus E 22(5) 573-582 2000年

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書籍等出版物

Wettability and Atomic Diffusibility of Liquid Metals on Solid Surfaces

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
First-Principles Molecular-Dynamics Simulation and STM Observation of Dissociative Adsorption Process of F₂ and Cl₂ on the Si(001)

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
First-Principles Molecular-Dynamics Calculation for Evaluating Separation Energy and Force between Powder and Work Surfaces in EEM(Elastic Emission Machining)Process

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
First-Principles Molecular-Dynamics Simulations of Electro-Chemical Etching Process in Ultrapure Water

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Development of X-ray Microanalysis by Using STM Probe

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy Observations of Metal Adsorbed Si(001)2×1 Surfaces

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Development of Evaluation Method for Ultra Precision Machined Surfaces by Photo-Reflectance Spectra

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Creation of Mono-Velocity Neutral Atomic Beam

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
High-Speed Patterning of Integrated-Type a-Si Solar Cell Submodules by Plasms CVM

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
High-Rate Deposition of Amorphous Si Thin Films by Atmospheric Pressure Plasma CVD

Precision Science and Technology for Pertect Surtaces Published by The Japan Society for Precision Engineering (JSPE) 1999年
Scanning Tunneling Microscopy Observations of Hydrogen Terminated Si(001) Surfaces after Wet Claning

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Development of Anistropic Dry Etching Method Using Laser-Collimated Fluorine Radica Beam

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
High Rate Polishing of Silicon Surface using Plasma CVM with Rotary Drum Electrode

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Measurment of Ultra Fine Particles on the Si Water Surface Using Laser Light Scattering

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Evaluation of Si Water Surface Using a New Apparatus for Measuring Particle of the Order of Nanometer

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Development of Ultra-Precision and Ultra-Clean Electro-Chemical Processing Method Using Hydroxyl Ion in Ultrapure Water

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Slicing of Functional Materials by Plasma CVM (Chemical Vaporization Machining)

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Plasma Chemical Vaporization Machining with a Pipe Electrode for Large Optics

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Develompent of Numerically Controlled plasma CVM(Chemical Vaporization Machining)System for Fabrication of Ultra Precision Optical Devices

Precision Science and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年
Development of Numerically EEM(Elastic Emission Machining)System for Ultraprecision Figuring ans Smoothing of Aspherical Surface

Precision Sceince and Technology for Perfect Surfaces Published by The Japan Society for Precision Engineering(JSPE) 1999年

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所属学協会

Works(作品等)

固体表面の電子状態シミュレーションとソフト加工による実証(新技術事業団共同研究促進事業)

1994年 - 1999年
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)の応用技術研究(大阪科学技術センター)

1992年 - 1999年
Studies on Application of Plasma-Chemical Vaporization Machining (Osaka Science and Technology Center)

1992年 - 1999年
プラズマを用いた化学的気化加工法(大口径非球面レンズ用)(新技術事業団委託開発)

1993年 - 1996年
プラズマを用いた化学的気化加工法(半導体ウエハー用)(新技術事業団委託開発)

1991年 - 1996年
New Wafer Processing Technology to be Commercialized Employing Plasma - CVM (Chemical Vaporization Machining) (Research Development Corporation of Japan)

1991年 - 1996年

共同研究・競争的資金等の研究課題

産業財産権

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