安武 潔

大気圧プラズマCVDにおけるシリコンエピタキシャル成長低温化の第一原理シミュレーションによる解明 ─表面へのガス原子の作用─ 

2007年度関西地方定期学術講演会講演論文集 A06 2007年  

Low-Temperature Oxidation of Crystalline and Hydrogenated Amorphous Si Using Very High Frequency Plasma at Atmospheric Pressure 

Extended Abstracts of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, Osaka, Japan pp. 7-8 2007年  

First-principles molecular-dynamics analysis on the effect of lowering temparature in silicon epitaxial film growth -attack of gas atoms to surface- 

A06 2007年  

Low-Temperature Oxidation of Crystalline and Hydrogenated Amorphous Si Using Very High Frequency Plasma at Atmospheric Pressure 

Extended Abstracts of International 21st Century COE Symposium on Atomistic Fabrication Technology 2007, Osaka, Japan pp. 7-8 2007年  

Si熱酸化膜中の残留秩序構造と絶縁膜／Si界面反応研究への応用 

ゲートスタック研究会 －材料・プロセス・評価の物理－（第11回研究会） 13-18 2006年  

Rotational and vibrational temperature of Fulcher-alpha band emitted by hydrogen molecules in capacitive VHF CVD plasma process at atmosphere 

Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology p.269 2006年  

Residual Order in Thermal Oxide Layers and Its applicatioin to the Study of Interface Reaction 

13-18 2006年  

Rotational and vibrational temperature of Fulcher-alpha band emitted by hydrogen molecules in capacitive VHF CVD plasma process at atmosphere 

Abstractbook of the 8th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology p.269 2006年  

HfSiON膜中の局所絶縁劣化箇所のC-AFM観測－窒化による信頼性向上メカニズムの検討－ 

ゲートスタック研究会（第10回特別研究会）講演予稿集 p.327-331. p.327-331 2005年