村井 久雄

J-GLOBALへ         更新日: 17/05/31 10:27
 
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研究者氏名
村井 久雄
 
ムライ ヒサオ
URL
http://www.ipc.shizuoka.ac.jp/~shmurai/
学位
理学博士(東京工業大学), 理学修士(東京工業大学)

研究分野

 
 

経歴

 
 
   
 
静岡大学
 
1976年
 - 
1976年
東京工業大学 理学部 助手 
 
1976年
 - 
1978年
米合衆国テネシー州 テネシー大学 化学科博士研究員
 
1978年
 - 
1980年
カナダ国アルバータ州 アルバータ大学化学科博士研究員
 
1980年
 - 
1982年
東京工業大学 理学部 助手
 

学歴

 
 
 - 
1976年
東京工業大学 理工学研究科 物理化学
 
 
 - 
1971年
東京工業大学 理学部 化学科
 

委員歴

 
2006年
 - 
2009年
電子スピンサイエンス学会  理事
 

Misc

 
宮川 浩一, 井早 康正, 村井 久雄
日本化学会誌   (8) 1358-1364   1989年
MURAI H, YAMAMOTO Y, I’HAYA Y J
Can. J. Chem.   69(11) 1643-1648   1991年
時間分解ESRの光化学反応への応用:キサントンの励起三重項状態とCIDEP
光化学(光化学協会誌)   15 33-42   1991年
平田 剛, 宮川 浩一, 井早 康正, 村井 久雄
日本化学会誌   (12) 1423-1428   1992年

書籍等出版物

 
高分子の構造(1)磁気共鳴法
新高分子実験学、共著、共立出版株式会社   1995年   
物理化学実験法第4版(共著)
東京化学同人   2000年   
New Aspects of Radiation Curing in Polymer Science and Technology(共著)
Elsevier Applied Science Publishers   1993年   
New Aspects of Radiation Curing in Polymer Science and Technology(共著)
Elsevier Applied Science Publishers   1993年   

競争的資金等の研究課題

 
時間分解ESR法による光化学反応系ラジカル対のスピンダイナミックス
ラジカルイオン対の新しい検出法による磁気共鳴と磁場効果
反応収率検出磁気共鳴法による光反応ダイナミックスの解明
膜界面における光化学反応機構とスピンダイナミクス