中山 弘

J-GLOBALへ         更新日: 18/04/23 11:15
 
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研究者氏名
中山 弘
 
ナカヤマ ヒロシ
所属
大阪市立大学
部署
大学院工学研究科 電子情報系専攻
職名
教授
学位
工学博士(大阪大学)

研究分野

 
 

経歴

 
1982年
 - 
1983年
米国IBM サンノゼ研究所
 
1983年
 - 
1990年
大阪大学工学部材料物性工学科
 
1990年
 - 
2000年
神戸大学工学部電気電子工学科
 

学歴

 
 
 - 
1981年
大阪大学 基礎工学研究科 物理系
 
 
 - 
1976年
大阪大学 基礎工学部 電気工学
 

委員歴

 
1992年
   
 
応用物理学会  結晶工学分科会幹事
 
1992年
   
 
応用物理学会  応用電物性分科会幹事
 
1993年
 - 
1994年
応用物理学会  編集委員
 
1994年
   
 
日本結晶成長学会  評議員
 

Misc

 
二元系MBE成長における吸着、拡散過程の確率論と原子配列
日本結晶学会誌   21(5) S193-S200
分子線エピキタシー過程におけるサイト相関吸着と原子配列秩序
日本結晶成長学会誌   
Al-Cu合金の析出初期段階の整合歪みとその役割
新材料創製討論会部会シンポジューム   
モンテカルロ・マスター方程式法によるエピタキシャル薄膜・界面構造シミュレーション
日本金属学会誌「まてりあ」   
エピタキシャル成長の原子論から量子論的アプローチへ-原子制御を支える成長理論への期待-
日本結晶成長学会誌   

書籍等出版物

 
金属便覧改訂5版(分担執筆) 第2章 2.6.4 薄膜
日本金属学会編(丸善出版)   

競争的資金等の研究課題

 
GaNの分子線エピタキシーとスピンフォトニクス
シリコン中の遷移金属・希土類元素の不純物状態
シリコンおよびダイヤモンド系薄膜の超高真空CVD