産業財産権

特許権

炭化ケイ素膜の形成方法

工業技術院大阪工業技術研究所

木内正人
後藤誠一
松本貴士
竹内孝江

出願番号: 特願11-108718
出願日: 1999年4月16日
公開番号: 特開2000-303174
公開日: 2000年10月31日
特許番号/登録番号: 特許3015892
登録日: 1999年12月24日
発行日: 2000年3月6日
権利者: 工業技術院長

特許第3015892

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