富永喜久雄 (Kikuo Tominaga) - マイポータル - researchmap

基本情報

所属: 徳島大学工学部電気電子工学科助教授

学位: 工学博士(京都大学)

J-GLOBAL ID: 200901097012685752
researchmap会員ID: 1000038983

研究キーワード

4

研究分野

2

学歴

4

委員歴

1

2001年

応用物理学会, 代議員

受賞

1

1994年

日本材料学会論文賞

MISC

108

Energetic oxygen ions in zro2 deposition by reactive sputtering of zr

Kikuo Tominaga, Takuya Kikuma, Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa

Vacuum 66(3-4) 279-284 2002年8月19日
Effect of Sputtering Gas Pressure and Nitrogen Concentration on Crystal Orientation and Residual Stress in Sputtered AlN

Vacuum 66(3-4), 441-446 2002年
GaN Films Deposited by Planar Magnetron Sputtering

Vacuum 66(3-4), 233-237 2002年
Film Properties of ZnO:Al Films Deposited by Co-spttering of ZnO : Al and contaminated Zn targets with Co, Mn and Cr

Vacuum 66(3-4), 511-515 2002年
Amorphous ZnO-In₂O₃ Transparent Conductive Films by Simultaneous Sputtering Method of ZnO and In₂O₃ Targets

Vacuum 66(3-4), 505-509 2002年
Effect of Sputtering Gas Pressure and Nitrogen Concentration on Crystal Orientation and Residual Stress in Sputtered AlN

Vacuum 66(3-4), 441-446 2002年
GaN Films Deposited by Planar Magnetron Sputtering

Vacuum 66(3-4), 233-237 2002年
Film Properties of ZnO:Al Films Deposited by Co-spttering of ZnO : Al and contaminated Zn targets with Co, Mn and Cr

Vacuum 66(3-4), 511-515 2002年
Amorphous ZnO-In2O3 Transparent Conductive Films by Simultaneous Sputtering Method of ZnO and In2O3 Targets

Vacuum 66(3-4), 505-509 2002年
Structural variation of Thin Films Deposited from Zn₃In₂O₆ Target by RF-Sputtering

Matetrials Research Bulletin 36(), 1075-1082 2001年
Crystallization Process of Transparent Conductive Oxides Zn_RIn₂O_R+3

J. Synchrotoron Radiation 8(), 785-787 2001年
Effect of Insertion of Thin ZnO Layer in Transparent Conductive ZnO : Al Film

Thin Solid Films 386(), 267-270 2001年
Energetic Oxygen Ions in the Reactive Sputtering of the Zr targets in Ar+O₂ Atmosphere

J. Vacuum Science & technology 19(), 1582-1585 2001年
Structural variation of Thin Films Deposited from Zn3In2O6 Target by RF-Sputtering

Matetrials Research Bulletin 36(), 1075-1082 2001年
Crystallization Process of Transparent Conductive Oxides ZnRIn2OR+3

J. Synchrotoron Radiation 8(), 785-787 2001年
Effect of Insertion of Thin ZnO Layer in Transparent Conductive ZnO : Al Film

Thin Solid Films 386(), 267-270 2001年
Energetic Oxygen Ions in the Reactive Sputtering of the Zr targets in Ar+O2 Atmosphere

J. Vacuum Science & technology 19(), 1582-1585 2001年
Structures and physical properties of films deposited by simultaneous DC sputtering of ZnO and In2O3 or ITO targets

T Moriga, T Okamoto, K Hiruta, A Fujiwara, Nakabayashi, I, K Tominaga

JOURNAL OF SOLID STATE CHEMISTRY 155(2) 312-319 2000年12月
Relationship between Grain Size and Residual Stress in AlN Sputtered Film

Proc.6^th International Conf. on residual Stresses , 391-398 2000年
Effect of Input Power on Crystal Orientation and Residual Stress in AlN Film Deposition by dc Sputtering

Vacuum 59(), 806-813 2000年

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書籍等出版物

2

電気磁気2

森北出版株式会社 1991年
電気磁気1

森北出版株式会社 1990年

所属学協会

5

Works(作品等)

2

GaNスパッタ膜の製作と物性評価

2000年 - 2002年
Investigations of GaN Sputtered Thin Films

2000年 - 2002年

共同研究・競争的資金等の研究課題

10