2024年12月
Effects of Tetramethyl Silane Concentration on Amorphous SiCN Films Deposited by Microwave Sheath-Voltage Combination Plasma at High Substrate Temperatures
MATERIALS TRANSACTIONS
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- 巻
- 64
- 号
- 12
- 開始ページ
- 1537
- 終了ページ
- 1543
- DOI
- 10.2320/matertrans.MT-M2024096
- ID情報
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- DOI : 10.2320/matertrans.MT-M2024096