成膜中の基板姿勢制御により表面にスケールの異なる微細構造を付与するセラミックスコーティング技術を確立するとともに，その摩耗特性を評価した．また，セラミックスコーティングの密着性改善についても検討した．基板を面外方向に回転させながら成膜を行うことによって，サブナノメートルオーダの島状構造およびその表面には数十ナノメートルオーダの凹凸を有するTiN薄膜を作製することができた．その表面性状を制御することによって，平滑な薄膜に比べて摩擦・摩耗特性は大幅に向上した．また，成膜において組成傾斜層を設けることによって，密着性およびフレッティング疲労特性を改善することが可能であることを明らかにした．