白井正充 (Masamitsu Shirai) - マイポータル - researchmap

基本情報

所属: 大阪府立大学大学院工学研究科物質・化学系専攻教授

学位: 工学博士(大阪府立大学)

J-GLOBAL ID: 200901017506006030
researchmap会員ID: 1000056909

研究キーワード

2

研究分野

3

学歴

4

委員歴

2

2002年

高分子学会, 関西支部理事
1999年

ラドテック研究会, 幹事

受賞

3

2002年

Photopolymer Science and Technology Award
2001年

マテリアルライフ学会論文賞
2001年

Material Life Society Paper Award

MISC

132

Novel thermally degradable diepoxy crosslinkers containing sulfonate ester groups for photo-crosslinking

YD Shin, A Kawaue, H Okamura, M Shirai

POLYMER DEGRADATION AND STABILITY 86(1) 153-158 2004年10月
Thermally crosslinkable-decrosslinkable system using diepoxy crosslinkers containing sulfonate ester moiety

YD Shin, A Kawaue, H Okamura, M Shirai

REACTIVE & FUNCTIONAL POLYMERS 61(2) 293-302 2004年
Effects of Protecting Group on Resist Characteristics of Acryl Polymers for 193 nm Lithography

J. Photopolym. Sci. Technol. 17, 483-488 2004年
Photo-Crosslinking of Poly(glycidyl methacrylate) Using Di-functional Photobase Generators}

J. Photopolym. Sci. Technol. & 17, 11-14 2004年
Acid Components in Outgassing from F2 Resists: A Study Using In-Situ QCM TechniqueÛ

J. Photopolym. Sci. Technol. 27, 645-650 2004年
新規スルホン酸エステル基を含有するエポキシポリマーの光架橋と水への再溶解

接着 48, 313-318 2004年
Evaluation of 157-nm resist structure - Outgassing relationship using in-situ QCM technique

M Shirai, T Shinozuka, S Takashiba, Y Horiguchi, S Irie, T Itani

ADVANCES IN RESIST TECHNOLOGY AND PROCESSING XXI, PTS 1 AND 2 5376 541-548 2004年
Photo-cross-linkable polymers having degradable properties on heating

M Shirai, A Kawaue, H Okamura, M Tsunooka

CHEMISTRY OF MATERIALS 15(21) 4075-4081 2003年10月
Vacuum ultraviolet (VUV)-light-induced outgassing from resist polymers: A study using in situ quartz crystal microbalance (QCM) technique

M Shirai, T Shinozuka, M Tsunooka, T Itani

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 42(6B) 3900-3904 2003年6月
Conductive fibers based on poly(ethylene terephthalate)-polyaniline composites manufactured by electrochemical polymerization

R Hirase, M Hasegawa, M Shirai

JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE 87(7) 1073-1078 2003年2月
Novel i-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Application to Photoresist Systemsa

Proc.RadTech Asia033 579-582 2003年
Photochemistry of Quaternary Ammonium Thiocyanates and Their Behavior as Photobase Generators

Proc.RadTech Europe033 2003年
Effects of Protecting Group of Fluoroalcohol on Lighographic Performance

J. Photopolym. Sci. Technol. 16, 707-712 2003年
Thermally Degradable Negative Photoresists

Proc.RadTech Asia030 2003年
"Synthesis of i- and g-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Application to Photopolymer Systems"

J. Photopolym. Sci. Technol. 16(1) 91-96 2003年
“光酸・塩基発生剤の開発とその新規フォトポリマー設計における活用”

角岡正弘, 陶山寛志, 岡村晴之

日本写真学会誌 66(4) 355-366 2003年
“再溶解型高架橋・硬化樹脂”

白井正充

色材 76(8) 301-306 2003年
"Photocleavage Processes in an Iminosulfonate Derivative Usable as Photoacid in Resist Technology"

LALEVEE J, ALLONAS X, FOUASSIER J‐P, SHIRAI M, TSUNOOKA M

Chem. Lett. 32(2) 178-179 2003年
"Base Generation by the Phptolysis of an Amineimide with Triplet- sensitizers and Its Use for an Epoxide/ Thiol Curing System"

Chem. Lett. 32(5) 418-419 2003年
"Synthesis of i- and g-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Application to Photopolymer Systems"

Chiaki Iwashima, Genji Imai, Haruyuki Okamura, Masahiro Tsunooka, Masamitsu Shirai

J. Photopolym. Sci. Technol. 16(1) 91-96 2003年

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書籍等出版物

10

高分子の架橋と分解ー環境保全を目指してー

シー・エム・シー 2004年
“高分子の長寿命化技術”

シーエムシー 2001年
高分子の長寿命化技術(分担執筆)

シーエムシー編 2000年
Photoacid and Photobase Generation in Photoresists(分担執筆)

Trends in Photochemistry and Photobiology 1999年
Photoacid Generating Polymers for Microlithography

Recent Research Development in Photobiology 1998年
Photoacid Generating Polymers for Surface Modification Resists.

ACS Symposium Series No. 706 1998年
新高分子実験学 (共著)

共立出版 1996年
ACS Symposium Series 614 : Plasma-Developable photoresist System Based on Polysiloxane Formation at the Irradiated Surface : A Liquid-Phase Deposition Method(共著)

American Chemical Society 1995年
ACS Symposium Series 579 : Polymeric Materials for Microelectronic Applications-science and Technology (共著)

American Chemical Society 1994年
ACS Symposium Series 537 : Polymers For Microelectronics (共著)

American Chemical Society 1994年

所属学協会

8

共同研究・競争的資金等の研究課題

5

光酸発生剤、光塩基発生剤の開発
高分子の光分解
光反応性高分子の合成とその応用

科学研究費補助金
Photodegradation of polymers
Synthesis of Photoreactive polymers and its applications.

Grant-in-Aid for Scientific Research