白﨑 博公

J-GLOBALへ         更新日: 17/06/07 03:14
 
アバター
研究者氏名
白﨑 博公
 
シラサキ ヒロキミ
所属
玉川大学
部署
工学部 機械情報システム学科
職名
非常勤講師

プロフィール

ナノテクノロジーとIT分野に足跡を残し、企業との連携による実用的な製品を作れることを目標に研究を行っている。また、国際的な研究を行うことも目標に、海外での研究発表も積極的に行っている。ムーアの法則「LSIに集積可能なトランジスタの数は約1.5年で2倍に増える」に従い、現在線路幅はサブ100ナノメートルにまでなってきている。このLSI製造のためのフォトリソグラフィー工程を、光波で瞬時に測定し検査する研究を行っている。これは、科研費での研究から委託研究へと続いている。また、測定方法では、ウェーブレット処理というFF
まず興味を持ってもらい、わくわくする気持ちにならないと、勉学の意欲は、湧いてきません。工学は、私たちの生活を豊かで楽しいものにしてきた。楽しんで、基本から勉強する。そして、一生働ける仕事を見つけてもらう。これを、目標に教育活動を行っています。トーク&チョークによる講義では学生は寝てしまう。電磁気や電磁波の講義では、工学部教育方法開発研究費により、簡単な電気や磁石の理科実験の実際の模型やモデルによる10個以上の教材を集め、視覚的な講義を行っている。また、語呂合わせなどを多用し、忘れない公式、電気の

研究キーワード

 
 

経歴

 
1999年4月
 - 
現在
玉川大学 工学部 教授
 
1990年4月
 - 
1999年3月
玉川大学 工学部 助教授
 
1982年4月
 - 
1990年3月
玉川大学 工学部 講師
 
1979年4月
 - 
1982年3月
福井工業大学 講師
 
1979年4月
 - 
1980年3月
日本学術振興会 研究員
 

学歴

 
1970年4月
 - 
1974年3月
大阪大学 基礎工学部 電気工
 

論文

 
2D and 3D isolation mounts scatterometry using RCWA and FDTD method
SPIE Advanced Microlithography 2016   9778 69   2016年2月   [査読有り]
Proceedings of SPIE   9424 9424211-9424217   2015年5月   [査読有り]
3D isolation mounts scatterometry with RCWA and PML
SPIE Advanced Microlithography 2015   9424 70   2015年2月   [査読有り]
Isolation mounts scatterometry with RCWA and PML
Proceedings of SPIE   9050 90502K1-90502K7   2014年5月   [査読有り]
Scatterometry simulation for the isolation grooves and groove shapes optimization with GPU.
SPIE Advanced Microlithography 2014   9050-91    2014年2月   [査読有り]

Misc

 
2D and 3D isolation mounts scatterometry using RCWA and FDTD method
-
SPIE Advanced Microlithography 2016   9778 69   2016年
3D isolation mounts scatterometry with RCWA and PML
-
SPIE Advanced Microlithography 2015   9424 70   2015年
-
Proceedings of SPIE   9424 9424211-9424217   2015年
Scatterometry simulation for the isolation grooves and groove shapes optimization with GPU.
-
SPIE Advanced Microlithography 2014   9050-91    2014年
Isolation mounts scatterometry with RCWA and PML
-
Proceedings of SPIE   9050 90502K1-90502K7   2014年

書籍等出版物

 
光学実務資料集
(株)情報機構   2006年11月   
Linewidth measurement simulations for semiconductor circuits by scatterometry using the FDTD and the time shortening calculation method
2004年2月   
Arbitrary 3D linewidth forms measurement simulations for the next-generation semiconductor circuits by scatterometry using the FDTD method
2004年2月   
Recent reserch developments in electronics & communications.(Co-author)
2003年3月   
Resist and Silicon Trench Array Linewidth Measurement Simulations for the Next-Generation Semiconductor Circuits by Optical Scattering Properties Using the FDTD Method
2003年3月   

講演・口頭発表等

 
スキャトロメトリの最近動向
(社)電子情報技術産業協会半導体部会(JEITA)   2007年8月30日   
スキャトロメトリーの現状と課題
日本半導体製造装置協会(SEAJ)   2007年6月12日   
分光エリプソメーターによる形状計測
(社)オプトメカトロニクス協会 光センシング技術部会   2006年7月5日   
Scatterometryの原理と最近の動向について
日本半導体製造装置協会(SEAJ)   2004年10月27日   
Scatterometry(半導体光波散乱計測)技術の動向
富士電機システムズ?東京工場   2004年8月31日   

Works

 
平成19年度インターンシップ成果報告書
2008年 - 現在
インターンシップ担当として14年
インターンシップ活用の手引き
2006年 - 現在
質の高いインターンシップの実現に向けて
2003年度インターンシップ成果報告書全国版
2003年 - 現在
「ハイパーキャンパス」を有効利用
インターンシップ解説ビデオ全3巻出演
2003年 - 現在
第1巻:インターンシップ導入の手順、第2巻:インターンシップへの取り組み手順、第3巻:体験しようインターンシップ

競争的資金等の研究課題

 
マイクロ波回路及び放射器に関する研究
RCWA法によるScatterometry解析
ウェーブレット処理による半導体トレンチ形状の光計測に関する研究
FDTD法を用いた電磁波・光波散乱および伝搬解析
時系列信号の時間軸と周波数軸を同時に見るためのウェーブレット処理解析

その他

 
2008年   平成19年度インターンシップ成果報告書
-
2006年   インターンシップ活用の手引き
-
2003年   2003年度インターンシップ成果報告書全国版
-
2003年   インターンシップ解説ビデオ全3巻出演
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