佐野泰久 (Yasuhisa Sano) - マイポータル

基本情報

所属: 大阪大学大学院工学研究科物理学系専攻教授

学位: 修士(工学)(大阪大学)
博士（工学）(大阪大学)

J-GLOBAL ID: 200901047281295610
researchmap会員ID: 1000163091

研究キーワード

研究分野

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 加工学、生産工学 /

経歴

学歴

受賞

2018年6月

ベストポスタープレゼンテーション賞, 2018年度精密工学会関西地方定期学術講演会

南映希, 伊藤亮太, 細尾幸平, 佐野泰久, 川合健太郎, 有馬健太
2017年9月

ベストポスタープレゼンテーション賞, 2017年度精密工学会秋季大会

伊藤亮太, 細尾幸平, 南映希, 佐野泰久, 川合健太郎, 有馬健太
2016年1月

安田賞, 応用物理学会第21回電子デバイス界面テクノロジー研究会

中出和希, 森大地, 川瀬達也, 川合健太郎, 佐野泰久, 山内和人, 森田瑞穂, 有馬健太
2013年11月

日本表面科学会会誌賞, 公益社団法人日本表面科学会

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太
2009年11月

JSPE Prize Best Paper Award, 3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (Japan Society for Precision Engineering)

Shun Sadakuni, Junji Murata, Keita Yagi, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Takeshi Okamoto, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi
2009年

JSPE Prize Best Paper Award
2006年11月

Best Paper Award 2006, The 8th International Conference on Progress of Machining Technology

Kazuya Yamamura, Kunihito Kato, Yasuhisa Sano, Masafumi Shibahara, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori
2006年2月

第19回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム学生会員発表賞, 日本放射光学会

松山智至, 三村秀和, 湯本博勝, 原英之, 山村和也, 佐野泰久, 遠藤勝義, 森勇藏, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人
2006年

Best Paper Award 2006
2005年11月

奨励研究賞, 応用物理学会、SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会

原英之, 佐野泰久, 三村秀和, 山内和人
2003年6月

工作機械技術振興賞（論文賞）, （財）工作機械技術振興財団

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久
2003年3月

精密工学会賞, (社)精密工学会

森勇藏, 山村和也, 佐野泰久
2003年

精密工学会賞
2003年

工作機械技術振興賞（論文賞）
2002年6月

工作機械技術振興賞(論文賞), (財)工作機械技術振興財団

森勇蔵, 山村和也, 佐野泰久
2002年

工作機械技術振興財団工作機械技術振興賞
2001年3月

精密工学会賞, 精密工学会

山内和人, 杉山和久, 稲垣耕司, 山村和也, 佐野泰久, 森勇藏
2001年

工作機械技術振興財団工作機械技術振興賞
2000年6月

工作機械技術振興賞(論文賞), (財)工作機械技術振興財団

森勇蔵, 山内和人, 山村和也, 佐野泰久

論文

268

Damage-Free Dicing of SiC Substrate Using High-Pressure SF6 Plasma: The Time Dependence of Processed Groove Profiles

Yuken Matsumura, Shunto Iden, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Yasuhisa Sano

Materials Science Forum 1193 41-45 2026年5月21日査読有り最終著者
Background-Free Intensity Autocorrelation for Femtosecond X-Ray Pulses

Taito Osaka, Shotaro Matsumura, Masafumi Miyake, Yasuhisa Sano, Ichiro Inoue, Yuichi Inubushi, Kensuke Tono, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi

PHYSICAL REVIEW LETTERS 136(19) 2026年5月12日査読有り
Fundamental study on numerically controlled plasma processing via the spatiotemporal control of excitation light

Motoki Nabata, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Yasuhisa Sano

Applied Physics Express 19(5) 056501-056501 2026年5月1日査読有り最終著者
Review of physicochemical-assisted nanomanufacturing processes for wide-bandgap semiconductor wafers

Kazuya Yamamura, Hui Deng, Yasuhisa Sano, Junji Murata, Xu Yang, Rongyan Sun

International Journal of Machine Tools and Manufacture 211 104321-104321 2025年10月査読有り
X-ray imaging/microscopy developments using advanced Kirkpatrick–Baez mirrors

Jumpei Yamada, Gota Yamaguchi, Atsushi Yakushigawa, Atsuya Nagamatsu, Daisetsu Toh, Yasuhisa Sano, Hidekazu Takano, Tomoya Uruga, Yukio Takahashi, Takaki Hatsui …

X-Ray Nanoimaging: Instruments and Methods VII 16-16 2025年9月19日査読有り
{Nanofocused attosecond hard X-ray free-electron laser with intensity exceeding $10^{19}$ W/cm$^2$

Ichiro Inoue, Takahiro Sato, River Robles, Matthew Seaberg, Yanwen Sun, Diling Zhu, David Cesar, Yuantao Ding, Vincent Esposito, Paris Franz …

Optica 2025年1月21日査読有り
Dicing Process for 4H-SiC Wafers by Plasma Etching Using High-Pressure SF<sub>6</sub> Plasma with Metal Masks

Yasuhisa Sano, Yuma Nakanishi, Masaaki Oshima, Shunto Iden, Jumpei Yamada, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum 1124 51-55 2024年8月21日査読有り筆頭著者
Ultra-precision smooth surface on polymer material prepared by catalyst-referred etching

D. Toh, K. Takeda, K. Kayao, Y. Ohkubo, K. Yamauchi, Y. Sano

International Journal of Automation Technology 18(2) 240-247 2024年3月5日査読有り招待有り最終著者
High-precision finishing method for narrow-groove channel-cut crystal x-ray monochromator using plasma chemical vaporization machining with wire electrode

Shotaro Matsumura, Iori Ogasahara, Taito Osaka, Makina Yabashi, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Review of Scientific Instruments 95(1) 2024年1月1日査読有り最終著者
High-pressure plasma etching up to 9 atm toward uniform processing inside narrow grooves of high-precision X-ray crystal optics

Shotaro Matsumura, Iori Ogasahara, Masafumi Miyake, Taito Osaka, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Makina YABASHI, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Applied Physics Express 2023年12月2日査読有り最終著者
Fabrication of YAG ceramics surface without damage and grain boundary steps using catalyzed chemical wet etching

Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

CIRP Journal of Manufacturing Science and Technology 47 1-6 2023年12月査読有り最終著者
Catalyst enhancement approach for improving the removal rate and stability of silica glass polishing via catalyzed chemical etching in pure water

Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Pho Van Bui, Kouji Inagaki, Yoshitada Morikawa, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

Precision Engineering 84 21-27 2023年11月査読有り最終著者
Bias-assisted photoelectrochemical planarization of GaN (0001) with impurity concentration distribution

D. Toh, K. Kayao, R. Ohnishi, A. I. Osaka, K. Yamauchi, Y. Sano

AIP Advances 13(9) 2023年9月1日査読有り最終著者
Role of Photoelectrochemical Oxidation in Enabling High-Efficiency Polishing of Gallium Nitride

Kiyoto Kayao, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano

ECS Journal of Solid State Science and Technology 12(6) 063005-063005 2023年6月1日査読有り最終著者
High-Speed Plasma Etching of Gallium Oxide Substrates Using Atmospheric-Pressure Plasma with Hydrogen-Helium Mixed Gas

Yasuhisa Sano, Taiki Sai, Genta Nakaue, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi

Solid State Phenomena 342 69-72 2023年5月25日査読有り筆頭著者
High-speed etching of gallium nitride substrate using hydrogen-contained atmospheric-pressure plasma

Yasuhisa Sano, Genta Nakaue, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Kazuto Yamauchi

Applied Physics Express 16(4) 045504-045504 2023年4月1日査読有り筆頭著者
Hard x-ray intensity autocorrelation using direct two-photon absorption

Taito Osaka, Ichiro Inoue, Jumpei Yamada, Yuichi Inubushi, Shotaro Matsumura, Yasuhisa Sano, Kensuke Tono, Kazuto Yamauchi, Kenji Tamasaku, Makina Yabashi

Physical Review Research 4(1) 2022年3月査読有り
High-throughput deterministic plasma etching using array-type plasma generator system

Yasuhisa Sano, Ken Nishida, Ryohei Asada, Shinya Okayama, Daisetsu Toh, Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi

Review of Scientific Instruments 92(12) 125107-125107 2021年12月1日査読有り筆頭著者
Optimal deformation procedure for hybrid adaptive x-ray mirror based on mechanical and piezo-driven bending system

Takato Inoue, Yuka Nishioka, Satoshi Matsuyama, Junki Sonoyama, Kazuteru Akiyama, Hiroki Nakamori, Yoshio Ichii, Yasuhisa Sano, Xianbo Shi, Deming Shu …

Review of Scientific Instruments 92(12) 123706-123706 2021年12月1日査読有り
X-ray adaptive zoom condenser utilizing an intermediate virtual focus

Satoshi Matsuyama, Hiroyuki Yamaguchi, Takato Inoue, Yuka Nishioka, Jumpei Yamada, Yasuhisa Sano, Yoshiki Kohmura, Makina Yabashi, Tetsuya Ishikawa, Kazuto Yamauchi

Optics Express 29(10) 15604-15604 2021年5月10日査読有り

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MISC

538

A micro channel-cut crystal X-ray monochromator for a self-seeded hard X-ray free-electron laser

Osaka, T., Inoue, I., Kinjo, R., Hirano, T., Morioka, Y., Sano, Y., Yamauchi, K., Yabashi, M.

Journal of Synchrotron Radiation 26(5) 1496-1502 2019年9月査読有り
触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発 (特集 SiC研磨技術の現状と新加工法)

佐野泰久, 有馬健太, 山内和人

Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology 61(8) 426-429 2017年8月
Pit Formation, Patterning and Flattening of Ge Surfaces in O2-Containing Water by Metal-Assisted Chemical Etching

Tatsuya Kawase, Atsushi Mura, Yusuke Saito, Takeshi Okamoto, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Mizuho Morita, Kenta Arima

ECS Transactions 75(1) 107-112 2016年9月査読有り
形状可変ミラーによる二段KBミラー集光光学系を用いた任意サイズ硬X線集光ビームの形成

後藤拓実, 中森紘基, 中森紘基, 松山智至, 木村隆志, KHAKUREL Krishna Prasad, 佐野泰久, 香村芳樹, 西野吉則, 石川哲也 …

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集 29th 52 2016年1月9日
大気圧プラズマを用いた超精密加工

佐野泰久

機械の研究 67(10) 832-838 2015年10月
WeC-2-5 HIGH-EFFICIENCY PLANARIZATION METHOD FOR HARD-TO-MACHINE SEMICONDUCTOR SUBSTRATES COMBINING MECHANICAL POLISHING AND ATMOSPHERIC-PRESSURE PLASMA ETCHING

Sano Yasuhisa, Shiozawa Kousuke, Doi Toshiro, Kurokawa Syuhei, Aida Hideo, Miyashita Tadakazu, Yamauchi Kazuto

Proceedings of ... JSME-IIP/ASME-ISPS Joint Conference on Micromechatronics for Information and Precision Equipment : IIP/ISPS joint MIPE 2015 "WeC-2-5-1"-"WeC-2-5-3" 2015年6月14日
硬X線集光用形状可変ミラーによる二段KBミラー集光光学系の開発

後藤拓実, 中森紘基, 松山智至, 木村隆志, Khakurel Krishna, 佐野泰久, 香村芳樹, 石川哲也, 西野吉則, 山内和人

アブストラクト集 2015 1047-1048 2015年3月
形状可変ミラーを用いた二段Kirkpatrick-Baezミラー集光光学系による硬X線集光ビームの形成

後藤拓実, 中森紘基, 松山智至, 木村隆志, Khakurel Krishna, 佐野泰久, 香村芳樹, 西野吉則, 石川哲也, 山内和人

精密工学会学術講演会講演論文集 2015 703-704 2015年
Behaviors of Carbon Atoms during Plasma Oxidation of 4H-SiC(0001) Surfaces near Room Temperature

Naoki Saito, Daichi Mori, Akito Imafuku, Kentaro Kawai, Yasuhisa Sano, Mizuho Morita, Kenta Arima

ECS Transactions 64(17) 23-28 2014年10月査読有り
Abrasive-Free Polishing of SiC Wafer Utilizing Catalyst Surface Reaction

Y. Sano, K. Arima, K. Yamauchi

ECS Transactions 58(4) 447-453 2013年10月招待有り
ウエットエッチングによる原子スケール平坦化触媒表面基準エッチング法の開発

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

応用物理学会誌 82(5) 403-406 2013年5月査読有り
Study of Terminated Species on 4H-SiC (0001) Surface Planarized by Catalyst-Referred Etching

P. V. Bui, S. Sadakuni, T. Okamoto, K. Arima, Y. Sano, K. Yamauchi

Materials Science Forum 740-724 510-513 2013年1月査読有り
半導体SiC基板の新しい研磨技術 : 触媒表面反応を利用した研磨技術の開発(<小特集>話題の材料を活かす加工技術)

八木圭太, 辻村学, 佐野泰久, 山内和人

日本機械学會誌 115(1128) 767-771 2012年11月5日
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN表面の平滑化

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

精密工学会誌 78(11) 947-951 2012年11月招待有り
Study on Reactive Species in Catalyst-Referred Etching of 4H-SiC using Platinum and Hydrofluoric Acid

Ai Isohashi, Yasuhisa Sano, Takeshi Okamoto, Kazuma Tachibana, Kenta Arima, Koji Inagaki, Keita Yagi, Shun Sadakuni, Yoshitada Morikawa, Kazuto Yamauchi

Materials Science Forum 740-742 847-850 2012年9月
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC, GaN, ZnO表面の平滑化

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

表面科学 : hyomen kagaku = Journal of the Surface Science Society of Japan 33(6) 334-338 2012年6月10日
触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC、GaN表面の平滑化 (特集先端部品のための高付価値研磨・切断加工技術)

山内和人, 佐野泰久, 有馬健太

機械技術 60(5) 37-41 2012年5月
SiC基板表面の原子レベル平坦化

佐野泰久, 有馬健太, 山内和人

光技術コンタクト 49(12) 22-27 2011年12月招待有り
Graphene Formation on 4H-SiC(0001) Surface Flattened by Catalyst-Assisted Chemical Etching in HF Solution

Keisuke Nishitani, Hiroki Sakane, Azusa N. Hattori, Takeshi Okamoto, Kentaro Kawai, Junichi Uchikoshi, Yasuhisa Sano, Kazuto Yamauchi, Mizuho Morita, Kenta Arima

ECS Transactions, State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors 53 (SOTAPOCS 53) 41(6) 241-248 2011年10月査読有り
Single-nanometer focusing of hard x-rays by Kirkpatrick-Baez mirrors

Kazuto Yamauchi, Hidekazu Mimura, Takashi Kimura, Hirokatsu Yumoto, Soichiro Handa, Satoshi Matsuyama, Kenta Arima, Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Koji Inagaki …

JOURNAL OF PHYSICS: CONDENSED MATTER 23(39) 394206 1-394206 2 2011年10月査読有り