2002年
Two-dimensional modeling and optimization of a neutral loop discharge etcher in an argon plasma（共著）
Surface and Coating Technology
- 巻
- Vol. 149, pp. 185-191
- 号
- DOI
- 10.1016/S0257-8972(01)01440-2
- ID情報
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- DOI : 10.1016/S0257-8972(01)01440-2