論文

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1996年2月1日

Aluminum-Selective Chemical Vapor Deposition Induced by Hydrogen Desorption on Silicon

Jpn. J. Appl. Phys.

坂上弘之 Y. Katsuda S. Konagata S. Shingubara 高萩隆行

巻: 35
号: 2B
開始ページ: 1010
終了ページ: 1013
記述言語: 英語
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）

リンク情報

Web of Science: https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=JSTA_CEL&SrcApp=J_Gate_JST&DestLinkType=FullRecord&KeyUT=WOS:A1996UD94100046&DestApp=WOS_CPL

ID情報

ISSN : 0021-4922
Web of Science ID : WOS:A1996UD94100046

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