2015年5月27日 近赤外分光法を用いた高分子中への二酸化炭素含浸過程の解析 成形加工(年次大会) 引間悠太, 濱田光司, 大嶋正裕 巻 26th 号 開始ページ 125 終了ページ 126 記述言語 日本語 掲載種別 リンク情報 J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201502253350109328URLhttp://jglobal.jst.go.jp/public/201502253350109328 ID情報 J-Global ID : 201502253350109328 エクスポート BibTeX RIS