2015年4月 - 2018年3月
圧電装荷マイクロ流路素子の開発とレーザ誘起衝撃波・電界パルス印加による遺伝子導入
日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(C) 基盤研究(C)
本研究では,導入細胞の動きを空間的に制限した状態でレーザ誘起衝撃波・電界パルスを同時印加できる「光吸収層を持つ圧電体を装荷したマイクロ流路素子」とヒト細胞への遺伝子導入において,マイクロ流路プレート上に形成する光吸収体の開発,ガラスで閉じ込められた容器中を伝搬するパルス状音波の可視化解析,マイクロ流路内細胞に対するパルス電界印加法,および細胞トラッピング応力波照射システムの検討,などを行った.
- ID情報
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- 課題番号 : 15K06038
- 体系的課題番号 : JP15K06038