論文

2015年11月

Development of low damage sputtering cathode and evaluation of its performance

Proceedings of 37th International Symposium on Dry Process
  • H. Iwata
  • ,
  • K. Okada
  • ,
  • H. Ishii
  • ,
  • D. Kato
  • ,
  • T. Sekiya
  • ,
  • M. Tanaka

35
開始ページ
397
終了ページ
397
記述言語
英語
掲載種別
研究論文(国際会議プロシーディングス)
DOI
10.14886/sssj2008.35.0_397
出版者・発行元
公益社団法人 日本表面科学会

ターゲットを短い円筒形にし、その内側をスパッタするカソードを開発した。この円筒ターゲット開口部の外側に基板を配置することで、高いエネルギーを持つ反跳アルゴンの入射が排除されて成膜できる。成膜速度を測定した結果、膜厚分布も併せて十分に実用できると考えられる。講演では本開発研究の詳細な報告をする。

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.14886/sssj2008.35.0_397
CiNii Articles
http://ci.nii.ac.jp/naid/130005489446
ID情報
  • DOI : 10.14886/sssj2008.35.0_397
  • CiNii Articles ID : 130005489446

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