2015年11月
Development of low damage sputtering cathode and evaluation of its performance
Proceedings of 37th International Symposium on Dry Process
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- 巻
- 35
- 号
- 開始ページ
- 397
- 終了ページ
- 397
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究論文(国際会議プロシーディングス)
- DOI
- 10.14886/sssj2008.35.0_397
- 出版者・発行元
- 公益社団法人 日本表面科学会
ターゲットを短い円筒形にし、その内側をスパッタするカソードを開発した。この円筒ターゲット開口部の外側に基板を配置することで、高いエネルギーを持つ反跳アルゴンの入射が排除されて成膜できる。成膜速度を測定した結果、膜厚分布も併せて十分に実用できると考えられる。講演では本開発研究の詳細な報告をする。
- リンク情報
- ID情報
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- DOI : 10.14886/sssj2008.35.0_397
- CiNii Articles ID : 130005489446