澤田豊 (Yutaka Sawada) - マイポータル - researchmap

基本情報

学位: 工学博士

J-GLOBAL ID: 200901068250639874
researchmap会員ID: 1000211509

外部リンク: http://www.t-kougei.ac.jp/engineering/index.html

研究キーワード

6

研究分野

3

学歴

2

- 1979年

東京工業大学, 理工学研究科, 化学工学
- 1979年

東京工業大学

MISC

77

Atmospheric effect for thermal process of indium hydroxoformate

J. Thermal Anal. Calorimet. 78, 639-655 2004年
Evolution of water vapor from indium-tin-oxide transparent conducting films fabricated by dip coating process

J. Thermal Anal. Calorimet. 77, 751-757 2004年
Formation of indium oxide thin films fabricated by a dip-coating process using indium 2-ethylhexanoate monohydroxide

E Shigeno, S Seki, K Shimizu, Y Sawada, M Ogawa, A Shida, M Ide, A Yajima, A Yoshinaka

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 169 566-570 2003年6月
Highly conducting indium-tin-oxide transparent films prepared by dip-coating with an indium carboxylate salt

S Seki, Y Sawada, M Ogawa, M Yamamoto, Y Kagota, A Shida, M Ide

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 169 525-527 2003年6月
Indium-tin-oxide films prepared by dip coating using an ethanol solution of indium chloride and tin chloride

Surface and Coating Technol., 169(170 521-524.) 2003年
Formation of indium-tin-oxide films by dip coating process using indium dipropionate monohydroxide

Thin Solid Films 411, 56-59 2002年
Fabrication of indium-tin-oxide films by dip coating process using ethanol solution of chlorides and surfactants

Thin Solid Films 411, 42-45 2002年
New control method for low temperature deposition limit of metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) by the introduction of organic vapor - application to SrRuO3 film preparation

Thin Solid Films 409, 33-36 2002年
New control method for low temperature deposition limit of metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) by the introduction of organic vapor - application to ZrO2 film preparation

Thin Solid Films 409, 23-27 2002年
Highly-conducting indium-tin-oxide transparent films fabricated by spray CVD using ethanol solution of indium (III) chloride and tin (II) chloride

Thin Solid Films 409, 46-50 2002年
Evolution of water vapor from indium-tin-oxide thin films fabricated by various deposition processes

J. Therm. Anal. Cal 69, 1021-1029 2002年
Indium-tin-oxide thin films prepared by dip-coating of indium diacetate monohydroxide and tin dichloride

Shigeyuki Seki, Yutaka Sawada, Toshikazu Nishide

Thin Solid Films 388(1-2) 22-26 2001年6月1日
Indium-tin-oxide thin films prepared by dip-coating of indium diacetate monohydroxide and tin dichloride

Shigeyuki Seki, Yutaka Sawada, Toshikazu Nishide

Thin Solid Films 388(1-2) 22-26 2001年6月1日
塩基性酢酸インジウムと塩化スズ((]G0002[))を用いてディップコート法によって作製したインジウム-スズ酸化物薄膜

388 22 2001年
MOCVD用鉛源として使われるPb(C₁₁H₁₉O₂)₂の熱安定性

6(6) 311 2001年
Thermal decomposition of cerium (III) acetate hydrate by a three-dimensional thermal analysis

Anal. Sci. 17, 875-880 2001年
Indium-tin-oxide thin films prepared by dip coating using ethanol and water solution of indium chloride and tin chloride

Trans. Mater. Res. Soc. Jpn 26, [4] 1239-1242 2001年
Formation process of indium oxide thin films from indium 2-ethylhexanoate monohydroxide, In(OH)(O2CCH(CH2CH3)(CH2)3CH3)2

Trans. Mater. Res. Soc. Jpn 26, [4] 1235-1238 2001年
Indium-tin-oxide thin films prepared by dip coating; Dependence of resistivity on film thickness and annealing atmosphere

Jpn. J. Appl. Phys 40, L1244-1246 2001年
Preparation of indium-tin-oxide transparent conducting films: Influence of the concentration of dip-coating solutions and the withdrawal rate on the films thickness and resistivity

Trans. Mater. Res. Soc. Jpn 26, [4] 1231-1234 2001年

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書籍等出版物

3

透明導電膜の新展開II ”監修” ”第9章スプレー法による高性能透明導電膜の作製” ”第15章昇温脱離法による透明導電膜の評価”

㈱シーエムシー出版 2002年
透明導電膜の新展開第1章透明導電膜のインパクト第16章塗布法による透明導電膜の作製

(株)シーエムシー 1999年
Developments of Transparent Conductive Films Chapter 1 Impact of Transparent Conductive Films Chapter 16 Preparation of Transparent Conductive Films by Wet Chemical Process

CMC Co. 1999年

所属学協会

3

共同研究・競争的資金等の研究課題

6