高山新司 (Shinji Takayama) - マイポータル

基本情報

学位: 博士(Ph.D)(ペンシルバニア大学（フイラデルフイア、米国）)
修士(工学)(京都大学)
学術博士

J-GLOBAL ID: 201001092770452474
researchmap会員ID: 1000213651

研究キーワード

研究分野

ナノテク・材料 / 金属材料物性 /

経歴

2009年

-:理工学部教授
2009年

-:Faculty of Science and Engineering, Professor
1995年 - 1996年

:名古屋大学工学部非常勤講師
1993年 - 1996年

:日本IBM（株）東京基礎研究所副主管研究部員
1996年

-:法政大学工学部計測制御工学専攻教授（「物理学（1）、（2）」担当）
1996年

-:システム制御工学科兼担教授
1992年

-:日本IBM（株）東京基礎研究所担当プログラムマネジャー
1991年 - 1991年

:京都大学工学部非常勤講師
1990年 - 1990年

:京都大学工学部非常勤講師
1989年 - 1989年

:京都大学工学部非常勤講師
1989年 - 1989年

:東京大学工学部非常勤講師
1989年

-:日本IBM（株）東京基礎研究所担当マネジャー
1983年 - 1987年

:（株）日立製作所中央研究所主任研究員
1987年

-:日本IBM（株）東京基礎研究所専任研究員
1978年 - 1979年

:Dept.of Metallurgy and Materials Science,University of Pennsylvania, 研究員
1979年

-:（株）日立製作所中央研究所研究員
1977年 - 1978年

:（株）日立製作所中央研究所外国招聘客員研究員
1974年

-:Allied Chemical Corp. Materials Research Center(USA,Morristown),Staff
法政大学理工学部電気電子工学科, 教授

学歴

- 1974年

ペンシルバニア大学, 材料科学, 材料科学
- 1974年

University of pennsylvania, Metallurgy and Materials science
- 1968年

京都大学, 工学部, 金属加工
- 1968年

京都大学

MISC

Enhancement of Exchange Bias in the Co2FeSi/IrMn System

N. P. Aley, S. Takayama, A. Hirohata, K. O'Grady

IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS 47(10) 3490-3493 2011年10月
Enhancement of Exchange Bias in the Co2FeSi/IrMn System

N. P. Aley, S. Takayama, A. Hirohata, K. O'Grady

IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS 47(10) 3490-3493 2011年10月
GIXS法によるAl/Mo及びCu/Mo二層膜の断面内部応力分布測定

高山新司, 朝比康裕

日本金属学会誌 72(5) 323-330 2008年
Cu-Zn合金膜の電気抵抗と付着力

高山新司, 藤田晋伍, 加藤量祐

日本金属学会誌 72(9) 703-707 2008年
分子軌道法を利用したAl合金薄膜の粒界偏析機構の解析

高山新司, 浦山恒太郎, 森理恵

日本金属学会誌 72(3) 201-205 2008年
Temperature dependence of internal stress and crystal growth of dilute Cu alloy films

高山新司, Y. Koike, T. Inase

Solid State Phenomena (2007) Vol. 127 147-152 2007年
Indium-Tin Oxide 透明導電膜の異常電気抵抗変化

高山新司, 上永裕太

日本金属学会誌第71(第9) 751-757 2007年
Temperature dependence of internal stress and crystal growth of dilute Cu alloy films

TAKAYAMA Shinji, Y. Koike, T. Inase

Solid State Phenomena (2007) Vol. 127 147-152 2007年
The Effect of Thickness and Under-layer on Both Grain Growth and Internal Stress in Cu Thin Films

高山新司, Makoto Oikawa

Materials Science Forum Vol. 502 417-422. 2005年
Temperature Dependence of Stress Distribution in Depth for Cu Thin

高山新司, T. Himuro

Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol.854E U11.11.1- U11.11.6 2005年
The effects of thickness and underlayer on both grain growth and internal stresses in Cu thin films

Shinji Takayama, Makoto Oikawa

Materials Science Forum 502 417-422 2005年
Temperature Dependence of Stress Distribution in Depth for Cu Thin

TAKAYAMA Shinji, T. Himuro

Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol.854E U11.11.1- U11.11.6 2005年
Indium tin oxide films with low resistivity and low internal stress

S Takayama, T Sugawara, A Tanaka, T Himuro

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 21(4) 1351-1354 2003年7月
Indium tin oxide films with low resistivity and low internal stress

S Takayama, T Sugawara, A Tanaka, T Himuro

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 21(4) 1351-1354 2003年7月
Thermal Stability and Internal Stress for Strongly (111) oriented Cu Films

高山新司, Makoto Oikawa, Tokuji Himuro

Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol. 795 235-240 2003年
Thermal Stability and Internal Stress for Strongly (111) oriented Cu Films

TAKAYAMA Shinji, Makoto Oikawa, Tokuji Himuro

Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol. 795 235-240 2003年
Effects of oxygen gas annealing on electrical properties and internal stress in indium tin oxide films

S Takayama, A Tanaka, T Sugawara, T Himuro

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 41(6A) L619-L621 2002年6月
Effects of oxygen gas annealing on electrical properties and internal stress in indium tin oxide films

S Takayama, A Tanaka, T Sugawara, T Himuro

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 41(6A) L619-L621 2002年6月
Highly(111) Oriented Al Thin Films by Ion-Plating Method Using Discharge plasma

高山新司

MRS Spring Meeting 2001年
Microstructures and Electronic Properities of Al-(Zr,Ta)-O Composite Alloy Films

高山新司

Eighth Annual International Conference on Composite Engineering (ICC E/8) 2001年

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2011 MRS Fall Meeting 2011年
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IEEE International Magnetic Conference 2011年
Effect of Post-Annealing in H2 and O2 Gases on Electronic Properties of Conducting (Al,Ti)-ZnO Films

Renewable Energy & Materials Tailoring (REMT2011) 2011年
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