渡邊 健夫

J-GLOBALへ         更新日: 19/01/14 16:36
 
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研究者氏名
渡邊 健夫
 
ワタナベ タケオ
URL
http://www.lasti.u-hyogo.ac.jp
所属
兵庫県立大学
部署
高度産業科学技術研究所
職名
所長・教授
学位
博士(理学)(大阪市立大学)
その他の所属
大阪市立大学

研究分野

 
 

経歴

 
2016年4月
 - 
現在
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長
 
2015年4月
 - 
現在
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 教授
 
2008年4月
 - 
2014年3月
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 准教授
 
2007年4月
 - 
2008年3月
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教
 
2004年4月
 - 
2007年3月
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助手
 

学歴

 
1987年4月
 - 
1990年9月
大阪市立大学 理学研究科後期博士課程 物理学専攻
 

委員歴

 
2006年4月
 - 
現在
International Conference on Photopolymer Science and Technology  Organizing Committee
 
2005年4月
 - 
現在
International Conference on Photopolymer Science and Technology  Program Committee
 
2004年4月
 - 
現在
International Conference on Photopolymer Science and Technology  Session Chair
 
2013年1月
 - 
現在
International Conference on Electron Ion Photon Beam Technology and Nanofabrication  Program Committee
 
 
 - 
現在
フォトポリマー懇話会  運営委員会
 

受賞

 
2016年5月
ニュークリアサイエンス協会 ニュークリアサイエンス協会賞 放射光を利用したレジストの開発に関する研究
 
2013年6月
International Workshop on EUV Lithography Best Paper Award R&D of EUV Lithography
 
2008年6月
International Workshop on EUV Lithography Best Poster Award 1st Place EUV interference lithography employing 11-m long undulator as a light source
 
2002年3月
日本物理学会 第7回日本物理学会論文賞 Direct Observation of Sequential Weak Decay of a Double Hypernucleus
 

論文

 
In-Situ Measurement of Outgassing Generated from EUV Metal Oxide Nanoparticles Resist During Electron Irradiation
Seiji Takahashi, Hiroko Minami, Yoko Matsumoto, Yoichi Minami, Mikio Kadoi, Atsushi Sekiguchi, Takeo Watanabe
J. Photopolym. Sci. Technol.   31 257-260   2018年   [査読有り]
Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Lithography System
Hiroto Kudo, Shizuya Ohori, Hiroya Takeda, Hiroki Ogawa, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa
J. Photopolym. Sci. Technol.   31 221-225   2018年   [査読有り]
Fabrication of High-Aspect-Ratio Transmission Grating Using DDR Process for 10-nm EUV Resist Evaluation by EUV Interference Lithography
Mana Yoshifuji, Shota Niihara, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe
J. Photopolym. Sci. Technol.,   31 215-220   2018年   [査読有り]
Synthesis of Hyperbranched Polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4]resorcinarene; Resist Properties for Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography,
Hiroto Kudo, Mari Fukunaga; Kohei Shiotsuki; Hiroya Takeda; Hiroki Yamamoto; Takahiro Kozawa; Takeo Watanabe
Reactive and Functional Polymers      2018年   [査読有り]
ニュースバル放射光施設を活用したフォトマスク検査顕微鏡の開発
原田哲男、渡邊健夫
姫路工業倶楽部部報工学レポート   28    2017年1月   [査読有り]

Misc

 
化学増幅系電子線レジストの基礎過程の研究(共著)
大阪大学産業科学研究所付属放射線実験所 平成5年度年報   72-73   1994年
「EUVリソグラフィ技術」(共著)
FEDジャーナル   7(2) 59-62   1996年
精密工学会誌   64(7) 979-984   1998年
極紫外リソグラフィー(共著)
光学   31(7), 524-531    2002年
Hybrid Emulsion Spectrometer for the Detection of Hodronically Produced Heavy Flavor States(共著)
Necl. Instrum. Methods   A289, 146-167    1990年

書籍等出版物

 
最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術監修
渡邊 健夫 (担当:分担執筆, 範囲:EUVリソグラフィー技術)
(株)シーエムシー出版   2017年9月   
リソグラフィー技術その40年 ~基礎からMEMS技術、応用開発事例まで~
渡邊 健夫 (担当:分担執筆, 範囲:第2章 EUVリソグラフィ技術、第2節 EUV干渉露光技術)
株式会社エヌ・ティー・エス   2017年4月   
「放射線と産業」第142号 (特集「第16回放射線プロセスシンポジウムの各論として掲載)
渡邊 健夫
一般財団法人 放射線利用振興協会編   2017年   
フォトポリマー懇話会ニュースレター70号
渡邊 健夫 (担当:分担執筆, 範囲:巻頭言 「産学連携に思うこと」)
2015年   
フォトポリマー懇話会ニュースレター67号
渡邊 健夫 (担当:分担執筆, 範囲:研究室紹介 「極端紫外線リソグラフィ研究開発センター」)
フォトポリマー懇話会   2014年   

講演・口頭発表等

 
ニュースバル放射光施設での産業利用の現状と今後の展開 [招待有り]
渡邊 健夫
大阪大学産業科学研究所附属量子ビーム科学研究施設,平成30年度施設研究会~量子ビーム科学の進展と新しい応用の広がり~   2018年12月17日   
Research activity of evaluation tools including soft X-ray optics for the research of EUV lithography at University of Hyogo
Takeo Watanabe, Tetsuo Harada
Physics of X-ray and Neutron Multilayer Structures (PXRNMS2018)   2018年11月7日   
ニュースバル放射光施設での産業利用 ~先端半導体微細加工技術~ [招待有り]
渡邊健夫
兵庫県立大学名誉教授会   2018年10月4日   
Rsearch Activities of Extreme Ultraviolet Lithography at University of Hyogo
Takeo Watanabe and Tetsuo Harada
Micro Nano Engineering 2018   2018年9月24日   
Photopolymer Technology for Extreme Ultraviolet Lithography [招待有り]
Takeo Watanabe
Polymer World Congress 2018   2018年9月3日   

Works

 
X線縮小露光評価技術の研究開発
1999年 - 2001年
EUVリソグラフィの研究
1999年 - 2001年
EUVリソグラフィ用レジスト材料の研究開発
2000年

競争的資金等の研究課題

 
極端紫外線リソグラフィに関する研究
放射光による有機高分子材料のガス脱離
多層膜反射率測定

特許

 
特願012-60637 : 短波長コヒーレント光源及び透過型の減光機構
渡邊 健夫
特願2011-153900 : 欠陥特性評価装置
渡邊 健夫
特許5683236 : 形状測定装置
渡邊 健夫
特願2010-192518 : パタン幅測定装置
渡邊 健夫
特願2009-35929 : 極端紫外線露光用化学増幅型フォトレジスト組成物
渡邊 健夫