進藤春雄 (Haruo Shindo) - マイポータル

基本情報

学位: 工学修士(秋田大学)
工学博士(九州大学)

J-GLOBAL ID: 200901090479263610
researchmap会員ID: 1000215395

研究キーワード

研究分野

経歴

1992年 - 1994年

福山大学工学部助教授
1992年 - 1994年

福山大学
1994年

- 東海大学工学部教授
1988年 - 1991年

広島大学工学部講師
1988年 - 1991年

広島大学
1971年 - 1987年

広島大学工学部助手
1971年 - 1987年

Hiroshima University, Research Assistant

学歴

委員歴

論文

Aspect ratio dependence of silicon trench oxidation in downstream of microwave oxygen plasma

Syuji Takahashi, Yasuyuki Taniuchi, Michiaki Utsumi, Haruo Shindo

Japanese Journal of Applied Physics 58(1) 2019年1月1日
Generation of microwave-excited atmospheric-pressure line plasma and its application

Hiroshi Kuwahata, Hiroshi Miyata, Masao Isomura, Haruo Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(12) 2017年12月査読有り
Fabrication of amorphous silicon nitride thin films by radio-frequency sputtering assisted by an inductively coupled plasma

Yuki Ishii, Tetsuya Kaneko, Kunio Okimura, Haruo Shindo, Masao Isomura

THIN SOLID FILMS 624 49-53 2017年2月査読有り
Reduction in plasma potential by applying negative DC cathode bias in RF magnetron sputtering

Isomura Masao, Yamada Toshinori, Osuga Kosuke, Shindo Haruo

Jpn. J. Appl. Phys. 55(11) 116201-116201 2016年10月11日
A New Floating-Probe for Measurement of Insulated Plasma Produced by Radio-Frequency Power

Yasuyuki Taniuchi, Toshinori Yamada, Takanori Tokieda, Michiaki Utsumi, Masao Isomura, Haruo Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 51(11) 2012年11月査読有り
In situ measurements of etching species in SF6 microwave downstream plasma by ion attachment mass spectroscopy

K Fujiwara, H Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 43(8A) 5540-5544 2004年8月査読有り
Surface wave plasma production employing high-permittivity discharge tube for material processing

K Fujiwara, T Okuya, M Yanagisawa, H Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 42(12) 7536-7540 2003年12月査読有り
Etching reactivity of negative ions generated in Cl2 downstream plasma

Y. Morikawa, T. Shibayama, S. Takayanagi, H. Ita, H. Shindo, T. Ichiki, Y. Horiike

Japanese Journal of Appplied Physics 42(Part 1, Number 3) 1435-1440 2003年3月1日査読有り
Enhancement of negative-ion-assisted silicon oxidation by radio-frequency bias

T Fujii, H Aoyagi, K Kusaba, Y Horiike, H Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 38(12A) L1466-L1468 1999年12月査読有り
Electron energy control in inductively coupled plasma employing multimode antenna

H Shindo, T Urayama, T Fujii, Y Horiike, S Fujii

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 38(9AB) L1066-L1069 1999年9月査読有り
Thin film detection employing frequency shift in sheath current oscillation

T Urayama, H Niimi, S Fujii, Y Horiike, H Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 38(8) 4917-4921 1999年8月査読有り
Heliconwave plasma which contains negative ion

H Shindo, Y Horiike

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 36(1A) 333-336 1997年1月査読有り
Highly selective SiO2/Si etching and related kinetics in time-modulated helicon wave plasma

Y Chinzei, H Shindo, Y Horiike

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 35(6A) 3585-3589 1996年6月査読有り
SiO2 etching employing inductively coupled plasma with hot inner wall

Y Chinzei, T Ichiki, R Kurosaki, J Kikuchi, N Ikegami, T Fukazawa, H Shindo, Y Horiike

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 35(4B) 2472-2476 1996年4月査読有り
負イオンプラズマによるシリコンエッチング

進藤春雄, 佐和芳夫, 堀池靖浩

真空 38(11) 924-928 1995年11月20日
SILICON ETCHING EMPLOYING NEGATIVE-ION IN SF6 PLASMA

H SHINDO, Y SAWA, Y HORIIKE

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 34(7B) L925-L928 1995年7月査読有り
HIGH-RATE AND HIGHLY SELECTIVE SIO2 ETCHING EMPLOYING INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA AND DISCUSSION ON REACTION-KINETICS

Y HORIIKE, K KUBOTA, H SHINDO, T FUKASAWA

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS 13(3) 801-809 1995年5月査読有り
RF SELFBIAS VOLTAGE AND SHEATH WIDTH IN INDUCTIVELY-COUPLED CHLORINE PLASMA

H SHINDO, T FUKASAWA, A NAKAMURA, Y HORIIKE

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 34(2A) 620-622 1995年2月査読有り
Measurement of Fluorocarbon Radicals Generated from C4F8/H2 Inductively Coupled Plasma: Study on SiO2 Selective Etching Kinetics.

Kubota Kazuhiro, Matsumoto Hiroyuki, Shindo Haruo, Shingubara Shoso, Horiike Yasuhiro

Japanese Journal of Applied Physics 34(4) 2119-2124 1995年
MICROLOADING EFFECT IN HIGHLY SELECTIVE SIO2 CONTACT HOLE ETCHING EMPLOYING INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA

T FUKASAWA, K KUBOTA, H SHINDO, Y HORIIKE

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 33(12B) 7042-7046 1994年12月査読有り

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MISC

表面処理のための大気圧直線型マイクロ波プラズマ

進藤春雄, 桑畑周司, 磯村雅夫

Journal of the Vacuum Society of Japan 60 105-111 2017年8月
誘導結合プラズマ支援RFスパッタリングによるZnO(N)薄膜作製と評価

石井優輝, 菊地壮太郎, 榊晃佑, 金子哲也, 金子哲也, 沖村邦雄, 沖村邦雄, 進藤春雄, 磯村雅夫, 磯村雅夫

薄膜太陽電池セミナー 7th 84 2016年
New Emissive Probe Measurements of Electron Temperature in Two Modes of Radio-Frequency Plasmas

Kouta Kusaba, Haruo Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 48(2) 2009年2月
Mode Transition Enhancement by Permittivity of Window Materials in Low Frequency Plasmas

Yousuke Jinbo, Yuichi Kitamura, Kouta Kusaba, Masashi Kikuchi, Haruo Shindo

APPLIED PHYSICS EXPRESS 2(1) 016001 2009年1月
A New Diagnostic Tool of Radio-Frequency Etching Plasma Produced in Insulated Vessels

55th International Symposium of American Vacuum Society, PS1-ThA10 140 2008年
2m Long-Line Plasma Production by Evanescent Microwave in Narrowed Rectangular Waveguide

Y.Kimura, H.Shindo

55th International Symposium of American Vacuum Society, PS2-We M6 111 2008年
A new emissive-probe method for electron temperature measurement in radio-frequency plasmas

Kouta Kusaba, Haruo Shindo

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 78(12) 123503 2007年12月
Optimum frequency for inductively coupled plasma generation with a single-loop antenna

Kouta Kusaba, Yuichi Kitamura, Haruo Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 46(45-49) L1212-L1215 2007年12月
Long line-shaped microwave plasma generation employing a narrow rectangular waveguide

T Fukasawa, S Fujii, H Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 44(4A) 1945-1950 2005年4月
Radio-frequency downstream plasma production by surface-wave in a very high-permittivity material discharge tube

K Fujiwara, M Endo, Y Ikeda, T Suzuki, M Yanagisawa, H Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 44(12-15) L457-L460 2005年
放射線・プラズマエレクトロニクス

進藤春雄

應用物理 72(1) 86-87 2003年1月10日
一巻ループアンテナにおける容量結合プラズマの研究

Japanese Journal of Applied Physics 41(8B) L956-L959 2002年8月
A study of capacitively coupled plasma generation in single-loop antennas

H Shindo, D Kudo, S Fujii

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 41(8B) L956-L959 2002年8月
酸素負イオンの引き出しとシリコントレンチ酸化

Proc. of 16th European Conference on Atomic & Molecular Phys. 2,349-350 2002年
Negative Oxygen Ion Extraction and Silicon Trench Oxidation

Proc. of 16th European Conference on Atomic & Molecular Phys. 2,349-350 2002年
Surface wave plasma production employing high-permittivity material for microwave window

K Kusaba, K Shinagawa, M Furukawa, K Kawamura, H Shindo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 40(11A) L1179-L1182 2001年11月
高誘電率導入窓による表面波プラズマの生成

Japanese Journal of Applied Physics 40,L179-182 2001年
酸素負イオンによるシリコントレンチ酸化特性

Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry 5 1685 2001年
反転磁界による誘導結合プラズマの電子エネルギー制御

Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry (]G0001[) 185 2001年
Negative Ion Oxidation Characteristics in Silicon Trench

Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry 5 1685 2001年

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書籍等出版物

ヤメスターのための基礎電磁気学

東海大学出版会 1999年
Electromagnetisms for Semester

Tokai University Press 1999年
半導体研究

工業調査会 1995年
Semiconductor Research

Kogyo Chosa Kai 1995年
高密度プラズマ応用プロセス技術

株式会社リアライズ社 1993年

所属学協会

Works(作品等)

高誘電率セラミックを用いた高密度プラズマ発生装置の開発研究

2004年
Development of High density plasma Source with High permittivity Ceramic

2004年
酸素負イオンによる酸化膜形成技術

2001年
Oxide film formation by negative oxygen ions

2001年
大口径エッチングプラズマに関する研究

2000年
A study of lange-diameter etching Plasma

2000年
ゲート電極エッチャーのプラズマ解析

1999年
Diagnostic of Gate Electrode Etching Plasma

1999年
マイクロ波プラズマアッシング装置のプラズマ基礎特性の研究

1997年
A study of microwave Plasma for Vesist Ashing

1997年

共同研究・競争的資金等の研究課題

大規模直線型マイクロ波大気圧プラズマの生成技術に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2017年4月 - 2020年3月

進藤春雄, 磯村雅夫
表面波共鳴点断熱拡散法による負イオンプラズマ生成とナノファブリケーションへの応用

日本学術振興会科学研究費助成事業新学術領域研究(研究領域提案型) 2010年 - 2011年

進藤春雄
大規模マイクロ波ラインプラズマの生成技術に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2008年 - 2010年

進藤春雄, 沖村邦雄
高周波プラズマの電子エネルギー分布計測法に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2006年 - 2007年

進藤春雄, 岩尾徹
プラズマプロセスによる相転移酸化物結晶成長とスイッチングデバイス創製

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2006年 - 2007年

沖村邦雄, 進藤春雄
"部分"非接触プラズマの制御と熱輸送に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2004年 - 2005年

利根川昭, 進藤春男, 渋谷猛久
酸素負イオンの挙動に着目したスパッタ酸化膜のエピタキシャル成長に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2004年 - 2005年

沖村邦雄, 進藤春雄
酸素負イオンによるシリコントレンチ酸化

委託研究 2000年 - 2005年
Silicon Trench Oxidation by Oxygen Negative Ion

Contract Research 2000年 - 2005年
大規模マイクロ波ラインプラズマ生成技術の研究

2005年
大口径プラズマ生成技術と集積回路プロセスの研究

2000年 - 2004年
Study on Large Diameter Plasma Prodution and ULSI Process

2000年 - 2004年
Study on Plasma Diagnostic System

1999年 - 2003年
負イオンプラズマによるシリコンエッチングの研究

1998年 - 2003年
Study on Si Etching in Negative Ion Plasma

1998年 - 2003年
酸素負イオンプラズマによるシリコンの低温高速酸化に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 1999年 - 2000年

進藤春雄, 犬島喬
電子サイクロトン分数波共鳴プラズマの生成とスパンタ応用

日本学術振興会科学研究費助成事業一般研究(C) 1994年 - 1994年

進藤春雄, 堀池清浩
極微細金属配線における高密度電子流に誘起される方向性原子移動現象の解明及び制御

日本学術振興会科学研究費助成事業試験研究(B) 1991年 - 1993年

新宮原正三, 金子尚史, 坂上弘之, 進藤春雄, 堀池靖浩
面放電形ACガス放電パネルの高速駆動に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業一般研究(C) 1987年 - 1988年

内池平樹, 進藤春雄
プラズマ診断システムとモニター装置の研究

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学歴

委員歴

論文

MISC

書籍等出版物

所属学協会

Works(作品等)

共同研究・競争的資金等の研究課題

産業財産権

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