産業財産権

特許権

Ni/SiO2触媒およびその製造方法

株式会社トクヤマ

高橋亮治
佐藤智司
松谷勝博
三上直樹

出願番号: 特願2004-067121
出願日: 2004年3月10日
公開番号: 特開2005-254091
公開日: 2005年9月22日
特許番号/登録番号: 特許第4481043号
登録日
発行日: 2010年3月26日

リンク情報

J-GLOBAL: https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201103015148798932
URL: http://jglobal.jst.go.jp/public/201103015148798932

ID情報

J-Global ID : 201103015148798932

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