
齊藤 伸
サイトウ シン (Shin Saito)
更新日: 2020/09/02
基本情報
経歴
4-
2015年4月 - 現在
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2007年4月 - 2015年3月
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2002年4月 - 2007年3月
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1999年4月 - 2002年3月
学歴
2-
- 1999年3月
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- 1994年3月
委員歴
52-
2014年4月 - 現在
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2014年4月 - 現在
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2013年6月 - 現在
受賞
18論文
169-
日本磁気学会論文特集号 3(1) 7 - 11 2019年7月 査読有り
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電子情報通信学会技術報告 MRIS2019-6(2019-06) 27 - 31 2019年6月
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日本磁気学会誌 43(2) 25 - 28 2019年3月 査読有り
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日本磁気学会誌 43(2) 21 - 24 2019年3月 査読有り
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AIP Advances 9(3) 035233-1 - 035233-5 2019年3月 査読有り
MISC
10-
顕微鏡 52(3) 119 - 123 2017年12月 査読有り 招待有り
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まぐね 12(4) 169 - 176 2017年8月 査読有り 招待有り
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非破壊検査 66(1) 22 - 28 2017年1月 査読有り 招待有り
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まぐね 11(2) 82 - 91 2016年4月 査読有り 招待有り
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まぐね 7(1) 5 - 11 2012年2月 査読有り 招待有り
講演・口頭発表等
355-
電子情報通信学会磁気記録・情報ストレージ研究会、映像情報メディア学会 マルチメディアストレージ研究会共催研究会 2019年6月13日 電子情報通信学会磁気記録・情報ストレージ研究会
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14th Joint MMM-INTERMAG Conference 2019年1月17日
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14th Joint MMM-INTERMAG Conference 2019年1月17日
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14th Joint MMM-INTERMAG Conference 2019年1月17日
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14th Joint MMM-INTERMAG Conference 2019年1月16日
所属学協会
2共同研究・競争的資金等の研究課題
4-
科学研究費補助金
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先端技術開発研究
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科学研究費補助金
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科学研究費補助金
産業財産権
33その他
11-
2017年9月 - 2017年9月酸化物・窒化物薄膜の形成は、半導体メモリ・磁気記録デバイス等の先端電子デバイスから、光学素子の反射防止膜・波長フィルタ、切削工具用の超硬皮膜など、汎用製品を実現する上で必須な基盤技術である。古くは湿式メッキ法が活用され形成されることが多かったが、最近では皮膜の薄膜化・高機能化に伴い乾式 (真空) プロセスによる形成が主流となり、飛来粒子を基体に直接堆積させるPVD法、特にその中でも緻密・高強度・高密着性の点で優れているスパッタリング法が産業応用上では極めて重要である。しかしながら一般に酸化物・窒化物薄膜のスパッタ成膜では、組成制御と高速成膜とを両立することが困難であり、量産性を律速していた (一般に酸化物の成膜速度は金属の1/10以下)。そこで本研究では、組成制御が比較的容易なRFスパッタリング法を選択し、切削工具用の皮膜として必要とされるAl, Ti, Cr系の酸化物・窒化物を高速で成膜する技術の確立を目的とする。
社会貢献活動
1