白井肇 (Hajime Shirai) - マイポータル

The characterization of radio-frequency discharge using electrolyte solution as one electrode at atmospheric pressure

Qiang Chen, Junshuai Li, Kenji Saito, Hajime Shirai

JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 41(17) 6 2008年9月

High-density microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition of microcrystalline silicon from dichlorosilane

Naoyuki Ohse, Kazu Hamada, Jhantu Kumar Saha, Tomohiro Kobayashi, Yu-ichiro Takemura, Hajime Shirai

THIN SOLID FILMS 516(19) 6585-6591 2008年8月

Physicochemistry of the plasma-electrolyte solution interface

Qiang Chen, Kenji Saito, Yu-ichiro Takemura, Hajime Shirai

THIN SOLID FILMS 516(19) 6688-6693 2008年8月

Microplasma discharge in ethanol solution: Characterization and its application to the synthesis of carbon microstructures

Qiang Chen, Takaya Kitamura, Kenji Saito, Koji Haruta, Yasushi Yamano, Tatsuo Ishikawa, Hajime Shirai

THIN SOLID FILMS 516(13) 4435-4440 2008年5月

Rapid crystallization of amorphous silicon utilizing a radio-frequency thermal plasma torch

Koji Haruta, Mina Ye, Yu-ichiro Takemura, Tomohiro Kobayashi, Tatsuo Ishikawa, Jhantu Kumar Saha, Hajime Shirai

JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS 354(19-25) 2333-2336 2008年5月

Correlation between micro-roughness, surface chemistry, and performance of crystalline Si/amorphous Si : H : Cl hetero-junction solar cells

H. Matsui, T. Saito, J. K. Saha, H. Shirai

JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS 354(19-25) 2483-2487 2008年5月

Very-high-frequency thermal microplasma jet for the rapid crystallization of amorphous silicon

Hajime Shirai, Yusuke Sakurai, Mina Yeo, Koji Haruta, Tomohiro Kobayashi, Tatsuo Ishikawa

THIN SOLID FILMS 516(13) 4456-4461 2008年5月

Deposition of controllable preferred orientation silicon films on glass by inductively coupled plasma chemical vapor deposition

Junshuai Li, Jinxiao Wang, Min Yin, Pingqi Gao, Deyan He, Qiang Chen, Yali Li, Hajime Shirai

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 103(4) 043505 2008年2月

多結晶シリコン薄膜の結晶粒径および位置制御に関する研究

白井肇

総合研究機構研究プロジェクト研究成果報告書第6号(平成19年度) 2008年

多結晶シリコン薄膜の結晶粒径および位置制御に関する研究

白井肇

総合研究機構研究プロジェクト研究成果報告書第6号(平成19年度) 2008年

大面積電子デバイス用基盤技術のための大気圧マイクロプラズマ処理装置の開発 : サブミリメーターからメートル級サイズまで

白井肇

第1回テクノ・カフェ : セミナー資料 1-2 2007年

大面積電子デバイス用基盤技術のための大気圧マイクロプラズマ処理装置の開発 : サブミリメーターからメートル級サイズまで

白井肇

第1回テクノ・カフェ : セミナー資料 1-2 2007年

High-density microwave plasma of SiH4/H-2 for high rate growth of highly crystallized microcrystalline silicon films

H Jia, JK Saha, N Ohse, H Shirai

EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL-APPLIED PHYSICS 33(3) 153-159 2006年3月

大気圧マイクロプラズマジェットの生成と制御に基づいた局所反応場の設計

白井肇

総合研究機構研究プロジェクト研究成果報告書 16年度 2005年

大気圧マイクロプラズマジェットの生成と制御に基づいた局所反応場の設計

白井肇

総合研究機構研究プロジェクト研究成果報告書 16年度 2005年

Low temperature formation of microcrystalline silicon films using high-density SiH4 microwave plasma

Y Sakuma, HP Liu, H Shirai, Y Moriya, H Ueyama

THIN SOLID FILMS 386(2) 261-266 2001年5月

Novel High-Density Microwave Plasma Utilizing an Internal Spoke Antenna for Fast Deposition of Microcrystalline Silicon Films.

H.Shirai, K. Yoshino, G. Ohkawara, H. Ueyama

Jpn. J. Appl. Phys. 40(7A) L701-L704 2001年

Formation of Self-Assembled Nanocrystalline Sillicon Dots by SiCl4/H2 RF Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

Y.Fujimura, S.H.Jung, H.Shirai

Jpn. J. Appl. Phys. 40(11B) L1214-L1216 2001年

Novel High-Density Microwave Plasma Utilizing an Internal Spoke Antenna for Fast Deposition of Microcrystalline Silicon Films.

H.Shirai, K. Yoshino, G. Ohkawara, H. Ueyama

Jpn. J. Appl. Phys. 40(7A) L701-L704 2001年

Formation of Self-Assembled Nanocrystalline Sillicon Dots by SiCl4/H2 RF Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

Y.Fujimura, S.H.Jung, H.Shirai

Jpn. J. Appl. Phys. 40(11B) L1214-L1216 2001年

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