講演・口頭発表等

2011年9月20日

ピコ秒パルスファイバーレーザによるサファイアの内部改質法

2011年度精密工学会秋季大会学術講演会
  • 高橋健太,岡本康寛,岡田 晃

開催年月日
2011年9月20日 - 2011年9月22日
記述言語
日本語
会議種別
口頭発表(一般)
主催者
公益社団法人 精密工学会
開催地
金沢大学

ピコ秒パルスファイバーレーザをサファイア基板内部にエピタキシャル層側より照射することによって,梨地面から基板内部にかけて幅5μm,長さ150μm程度と高アスペクト比の改質層を形成できた.この改質層を起点としてサファイア基板を分割でき,エピタキシャル層の損傷もほとんど確認されなかった.

リンク情報
URL
https://doi.org/10.11522/pscjspe.2011A.0.615.0
URL
https://jlc.jst.go.jp/DN/JALC/10034498674?from=CiNii