査読有り 筆頭著者 責任著者 2019年3月 ビスフェノールCを用いたノボラック樹脂の合成と性質:ビスフェノール類に着眼した柔軟性をもつフォトレジスト材の開発 ネットワークポリマー論文集 山﨑博人, 藤井雄大, 古本貴久, 黒岩貞昭, 高林誠一郎 巻 40 号 2 開始ページ 70 終了ページ 79 記述言語 日本語 掲載種別 研究論文(学術雑誌) リンク情報 共同研究・競争的資金等の研究課題ビスフェノール類を用いたドライフィルムレジスト用ノボラック樹脂の開発 エクスポート BibTeX RIS