産業財産権

特許権

セルスタック、積層電池、電解槽、及び透析槽

株式会社浅野, 学校法人智香寺学園埼玉工業大学

中村仁
嘉藤修
篠原立憲
松浦宏昭
高橋和子
濱本修
福島祥夫
巨東英

出願番号: 特願2016-173881
出願日: 2016年9月6日
公開番号: 特開2018-041592
公開日: 2018年3月15日

リンク情報

J-GLOBAL: https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201803010601948649
URL: http://jglobal.jst.go.jp/public/201803010601948649

ID情報

J-Global ID : 201803010601948649

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