酒井 徹志

J-GLOBALへ         更新日: 08/01/18 00:00
 
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研究者氏名
酒井 徹志
 
サカイ テツシ
所属
旧所属 東京工業大学 大学院総合理工学研究科 物理情報システム創造専攻
職名
教授
学位
工学博士(北海道大学)

研究分野

 
 

経歴

 
2000年
 - 
2001年
東京工業大学 教授 1999 - 東北大学 客員教授 2000 - 2001 NTTエレクトロニクス株式会社 理事・LSI事業本部統括技師長・新技術開発推進部長 1997 - 日本電信電話株式会社 LSI研究所主席研究員・第2プロジェクト長 1992 - 日本電信電話株式会社 LSI研究所微細加工技術研究部長 1987 - 日本電信電話公社 武蔵野電気通信研究所高速度集積研究室長 1983 -
 

学歴

 
 
 - 
1966年
北海道大学 工学部 電子工学科
 

委員歴

 
1981年
 - 
1985年
日本電子情報通信学会 半導体トランジスタ研究専門委員会  幹事
 
1987年
   
 
日本電子情報通信学会 シリコンデバイス・材料研究専門委員会  副委員長
 
1988年
 - 
1989年
日本電子情報通信学会 リコンデバイス・材料研究専門委員会  委員長
 
1990年
 - 
1991年
日本電子情報通信学会 東京支部  評議委員
 
1994年
   
 
日本電子情報通信学会 エレクトロニクスグループ  副委員長
 

受賞

 
2004年
電子情報通信学会フェロー
 
1997年
SSDM Award (ISSDM)
 
1997年
BJT 50th Anniversary Award (IEEE BCTM)
 
1996年
J. J. Ebers Award (IEEE Electron Devices Society)
 
1994年
前島賞 (財団法人逓信協会)
 

Misc

 
静電容量式指紋センサを応用したヒューマンインターフェイスの提案 -文字入力機能・指紋認証機能一体化ー
電子情報通信学会2004ソサイエティ大会   C-12-28   2004年
HfOxNy Thin Films Formed by ECR Ar/N2 Plasma Oxidation of HfN Thin Films
The 15th Symposium of The Materials Research Society of Japan   G1-O07-M,129   2004年
HfNのECR-Ar/O2プラズマ酸化によるHfOxNy薄膜の形成
第65回応用物理学会学術連合講演会予稿集   Ⅱ-679   2004年
ECRスパッタ法により形成したHfOxNy薄膜の熱処理に関する検討
第51回応用物理学関係連合講演会予稿集   Ⅱ-733   2004年
極浅プレアモルファス層によるTiSi2形成膜厚制御
第51回応用物理学関係連合講演会予稿集   Ⅱ-907   2004年

書籍等出版物

 
第2版応用物理ハンドブック
丸善   2002年   
SIMOX LSI 技術
ハイテクノロジー推進研究所   1998年   
超LSIの製造技術(教育用ビデオテープ全5巻とテキスト)
日刊工業新聞社   1990年   
超高速バイポーラ・デバイス
培風館   1985年   

競争的資金等の研究課題

 
超高速・超低電力集積化半導体デバイス
システムLSIインターフェイスの多機能化デバイス構造
超高速アナログ・デジタル混載LSIデバイス技術

特許

 
バイポーラトランジスタの製造方法
特開平9-055435号
半導体装置およびその製造方法
特開平9-139390号
半導体集積装置
特開平11-074498号
半導体集積装置
特開平11-074501号
半導体装置
特開平11-074547号