寒川誠二

基本情報

外部リンク: http://db.tohoku.ac.jp/whois/detail/c79e037b6f7ca3382e241942d51ec459.html

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Growing low-temperature, high-quality silicon-dioxide films by neutral-beam enhanced atomic-layer deposition

Hua-Hsuan Chen, Susumu Toko, Daisuke Ohori, Takuya Ozaki, Mitsuya Utsuno, Tomohiro Kubota, Toshihisa Nozawa, Seiji Samukawa

Journal of Physics D: Applied Physics 53(1) 015204 - 015204 2020年1月2日査読有り
Low resistive InGaN film grown by metalorganic chemical vapor deposition

Shrestha, N.M., Chauhan, P., Wong, Y.-Y., Li, Y., Samukawa, S., Chang, E.Y.

Vacuum 171 2020年査読有り
Neutral beam aided surface modification for controlling triboelectric behavior

Kim, W., Okada, T., Samukawa, S., Choi, D.

Lecture Notes in Electrical Engineering 588 2020年査読有り
Neutral-Beam Technologies for Novel Nanomaterials and Nanodevices: Suppressing the Formation of Defects at the Atomic Layer Level

Seiji Samukawa

IEEE Nanotechnology Magazine 13(6) 21 - 33 2019年12月査読有り
Modern and Emerging Nanomanufacturing Technologies [Guest Editorial]

Seiji Samukawa

IEEE Nanotechnology Magazine 13(6) 6 - 6 2019年12月査読有り

Electricity Generation by Water Flow on Nitrogen-doped Graphene

OKADA Takeru, KALITA Golap, TANEMURA Masaki, YAMASHITA Ichiro, MEYYAPPAN M, SAMUKAWA Seiji

Proceedings. International Conference on Flow Dynamics (CD-ROM) 15th 208‐209 2018年
Thermal Conductivity of Silicon Nanowire Using Landauer Approach for Thermoelectric Applications

LEE Ming‐Yi, LI Yiming, SAMUKAWA Seiji, SAMUKAWA Seiji

Proceedings. International Conference on Flow Dynamics (CD-ROM) 15th 198‐199 2018年
Energy-Material Project in World Leading Research Center

ORIMO Shin‐ichi, SAMUKAWA Seiji

Proceedings. International Conference on Flow Dynamics (CD-ROM) 15th 194 2018年
中性粒子ビームによる原子層加工・堆積プロセス

寒川誠二

光アライアンス 27(10) 28 - 34 2016年10月
最先端微細加工技術～中性粒子ビームによる原子層レベル微細加工～

寒川誠二

光技術コンタクト 54 19 - 27 2016年4月

Intelligent Nanosystems for Energy, Information and Biological Technologies

Sone Jun’ichi, Sawada Kazuaki, Urisu Tsuneo, Shimizu Hisashi, Kawada Jiro, Ono Takao, Uraoka Yukiharu, Samukawa Seiji, Tsujii Yoshinobu, Higuchi Masayoshi(担当:共著, 範囲:145-167, 169-192)

Springer 2016年10月
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Seiji Samukawa

Springer 2014年1月
新版 ULSIデバイス・プロセス技術

菅野卓雄, 監, 伊藤隆司, 編(担当:共著, 範囲:?)

コロナ社 2013年5月20日

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マイクロLED技術の現状と今後の展開

寒川誠二

GaN系材料の原子層無損傷加工技術, 応用物理学会シリコンナノテクノロジー分科会第220回研究集会 2019年11月18日招待有り
Atomic Layer Etching, Deposition and Modification Processes for Novel Nano-materials and Nano-devices

Seiji Samukawa, Kazuhiko Endo

3rd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics 2019年11月7日招待有り
Atomic Layer Defect-free Etching for Future sub-10nm Nano-devices

Seiji Samukawa

2019 International Electron, Devices and Materials Symposium 2019年10月25日招待有り
Creating Green Nanostructures and Nanomaterials for Advanced Energy Nanodevices

Seiji Samukawa

IEEE Distinguished Lecturer Program (Universiti Malaysia Perlis 2019年10月10日招待有り
Creating Green Nanostructures and Nanomaterials for Advanced Energy Nanodevices

Seiji Samukawa

IEEE International Microwave, Electron Devices & Solid-State Circuit Symposium (IMESS) 2019 2019年10月9日