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永井 久雄
ナガイ ヒサオ (Hisao Nagai)
更新日: 2020/05/01
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研究キーワード
研究分野
学歴
委員歴
受賞
MISC
所属学協会
共同研究・競争的資金等の研究課題
基本情報
所属
名古屋大学
大学院(院生) 大学院学生(博士課程)
学位
工学修士(名城大学)
J-GLOBAL ID
200901084940804350
researchmap会員ID
1000314110
研究キーワード
2
プラズマプロセス
Plasma Process
研究分野
1
ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 /
学歴
2
- 1999年
名城大学, 工学研究科, 電気電子工学
- 1999年
名城大学
委員歴
1
電気学会, 学生員
受賞
1
2001年
DPS 2000 Award for Young Researcher
MISC
2
Behavior of atomic radicals and their effects on organic low dielectric constant film etching in high density N-2/H-2 and N-2/NH3 plasmas
H Nagai, S Takashima, M Hiramatsu, M Hori, T Goto
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 91(5) 2615-2621 2002年3月
Behavior of atomic radicals and their effects on organic low dielectric constant film etching in high density N-2/H-2 and N-2/NH3 plasmas
H Nagai, S Takashima, M Hiramatsu, M Hori, T Goto
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 91(5) 2615-2621 2002年3月
所属学協会
2
電気学会
応用物理学会
共同研究・競争的資金等の研究課題
2
高密度プラズマを用いた低誘電率層間絶縁膜エッチングに関する研究
Studies on Etching Mechanism of Interlayer Low-k Films Employing High-Density Plasma
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