論文

査読有り 国際誌
2019年9月

Identification and Suppression of Si-H2 Bond Formation at P/I Interface in a-Si:H Films Deposited by SiH4 Plasma CVD

Plasma Fusion Res.
  • K. Tanaka
    • ,
  • H. Hara
    • ,
  • S. Nagaishi
    • ,
  • L. Shi
    • ,
  • D. Yamashita
    • ,
  • K. Kamataki
    • ,
  • N. Itagaki
    • ,
  • K. Koga
    • ,
  • M. Shiratani
巻
14
号
記述言語
英語
掲載種別
DOI
10.1585/pfr.14.4406141
リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1585/pfr.14.4406141
ID情報
  • DOI : 10.1585/pfr.14.4406141
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