2021年4月 - 2024年3月
調節パルスレーザーアニール法による高濃度不純物ドープQカーボン高温超伝導体の開発
日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(B) 基盤研究(B)
- 課題番号
- 21H01624
- 体系的課題番号
- JP21H01624
- 担当区分
- 研究代表者
- 配分額
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- (総額)
- 16,900,000円
- (直接経費)
- 13,000,000円
- (間接経費)
- 3,900,000円
- ID情報
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- 課題番号 : 21H01624
- 体系的課題番号 : JP21H01624
この研究課題の成果一覧
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論文
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Diamond and Related Materials 140 110514 2023年12月 査読有り責任著者
講演・口頭発表等
8-
第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月22日
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第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月20日
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日本表面真空学会 SP部会第174回定例研究会 2023年3月14日 招待有り
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The 27th Hiroshima International Symposium on Synchrotron Radiation 2023年3月9日
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第18回酸化グラフェンナノシートシンポジウム 2022年11月25日 招待有り
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株式会社TLO京都 次世代材料特集 第12回 大学発シーズ マッチングセミナー 2022年11月21日 招待有り
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2022年度 応用物理・物理系学会中国四国支部合同学術講演会 2022年7月30日
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The 26th Hiroshima International Symposium on Synchrotron Radiation 2022年3月11日
メディア報道
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PR TIMES PR TIMES https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000708.000072793.html 2022年6月7日 インターネットメディア