共同研究・競争的資金等の研究課題

2015年4月 - 2018年3月

AB積層二層グラフェンの成長技術開発とトランジスタへの応用

日本学術振興会  科学研究費助成事業  基盤研究(B)

課題番号
15H03530
体系的課題番号
JP15H03530
配分額
(総額)
17,030,000円
(直接経費)
13,100,000円
(間接経費)
3,930,000円

究極的な二次元原子膜材料であるグラフェンは、高いキャリア移動度や機械的柔軟性、光透過性などを有し、今後のIoT社会にとって極めて有望な材料である。本研究では半導体応用等に有用な二層グラフェンを、化学蒸着法によって均一、かつ大面積・高品質に合成する手法の開発に成功した。さらに、層間への分子挿入などにより電気特性を向上させ、太陽電池をはじめとした応用研究も推進することができた。

リンク情報
KAKEN
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15H03530
Kaken Url
https://kaken.nii.ac.jp/file/KAKENHI-PROJECT-15H03530/15H03530seika.pdf
ID情報
  • 課題番号 : 15H03530
  • 体系的課題番号 : JP15H03530