論文

査読有り
2016年

Ni表面のシリサイド形成初期過程のSTM観察

表面科学学術講演会要旨集
  • 福田 常男
  • ,
  • 岸田 逸平
  • ,
  • 梅澤 憲司

36
開始ページ
411
終了ページ
411
記述言語
日本語
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
DOI
10.14886/sssj2008.36.0_411
出版者・発行元
公益社団法人 日本表面科学会

Ni(111)、(100)、(110)表面でのSi吸着後形成されるシリサイド構造を超高真空下でSTM観察を行った。Ni(111)表面では、Siが1/3ML吸着したroot-3構造が安定構造であり、Ni(100)表面では1/2MLのroot-2構造、Ni(110)表面では1/2MLのp(1x2)、c(2x2)、c(4x2)構造が共存することが分かった。

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.14886/sssj2008.36.0_411
CiNii Articles
http://ci.nii.ac.jp/naid/130005175739
ID情報
  • DOI : 10.14886/sssj2008.36.0_411
  • CiNii Articles ID : 130005175739

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