2016年
Ni表面のシリサイド形成初期過程のSTM観察
表面科学学術講演会要旨集
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- 巻
- 36
- 号
- 開始ページ
- 411
- 終了ページ
- 411
- 記述言語
- 日本語
- 掲載種別
- 研究論文(学術雑誌)
- DOI
- 10.14886/sssj2008.36.0_411
- 出版者・発行元
- 公益社団法人 日本表面科学会
Ni(111)、(100)、(110)表面でのSi吸着後形成されるシリサイド構造を超高真空下でSTM観察を行った。Ni(111)表面では、Siが1/3ML吸着したroot-3構造が安定構造であり、Ni(100)表面では1/2MLのroot-2構造、Ni(110)表面では1/2MLのp(1x2)、c(2x2)、c(4x2)構造が共存することが分かった。
- リンク情報
- ID情報
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- DOI : 10.14886/sssj2008.36.0_411
- CiNii Articles ID : 130005175739