産業財産権

特許権

新規テトラチアスピロ化合物、それを含む光学用組成物、及びその製造方法

  • 青柳直人
  • ,
  • 遠藤剛
  • ,
  • 堀越裕
  • ,
  • 福岡弘直
  • ,
  • 並木康佑

出願番号
特願2017-119930
出願日
2017年6月19日
公開番号
特開2019-1785
公開日
2019年1月10日