水野文夫 (Fumio Mizuno) - マイポータル

基本情報

学位: 工学士(名古屋大学)
工学修士(名古屋大学)
博士(工学)(名古屋大学)

J-GLOBAL ID: 200901073602314435
researchmap会員ID: 1000362000

研究キーワード

研究分野

経歴

2001年 - 2005年

明星大学理工学部電気工学科教授
2005年

- 明星大学理工学部電気電子システム工学科教授

学歴

委員歴

2008年 - 2009年

（社）日本技術者教育認定機構技術者教育プログラム認定審査・審査員
2003年 - 2007年

（独）産業技術総合研究所｢3Dナノメートル評価用標準物質創成技術プロジェクト｣推進委員会・委員
2004年 - 2006年

国際固体素子・材料コンファレンス論文委員会論文委員
2001年 - 2006年

（財）くまもとテクノ産業財団半導体教育講座・講師
2002年 - 2004年

マイクロプロセス・ナノ工学国際会議論文委員会論文委員
2000年 - 2001年

SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)日本地区マイクロパターニング委員会・委員長
1999年

- （社）電子情報技術産業協会半導体技術ロードマップ専門委員会・委員

受賞

1996年

市村賞
1995年

R&D100賞

MISC

Technique for estimating the angle of incidence and depth of focus of an electron beam

F Mizuno, Amemiya, I, K Taniguchi

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 23(6) 3052-3055 2005年11月
Stress estimation of patterned films using a high-energy electron beam

F Mizuno, T Toshinawa

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 22(6) 3390-3393 2004年11月
Impacts of probe-tip tilt on scanning probe microscopy

F Mizuno, Misumi, I, S Gonda, T Kurosawa

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 22(6) 3394-3398 2004年11月
Observations and measurements of photomasks using an electron beam with energy of 50 keV or higher

F Mizuno, T Ohfuji, T Amano

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 21(6) 3131-3135 2003年11月
Depth of Field at High Magnification of Scanning Electron Microscopes

M.Sato

J.Vac.Sci.Technol. 18(6) 3047-3051 2000年
Evaluation of Total Uncertainty in the Dimension Measurements Using Critical-dimension Measurement Scanning Electron Microscopes

M.Shimizu, K.Sasada, T.Mizuno, S.Yamada

J.Vac.Sci.Technol. 16(6) 3661-3667 1998年
Evaluation of the Long-term Stability of Critical-dimension Measurement Scanning Electron Microscopes Using a Calibration Standard

M.Shimizu, K.Sasada, T.Mizuno

J.Vac.Sci.Technol. 15(6) 2177-2180 1997年
Effects of electron-beam parameters on critical-dimension measurements

F Mizuno, O Satoh

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 14(6) 4014-4019 1996年11月
Effect of Electron-beam Parameters on Critical-dimension Measurements

S.Yamada

J.Vac.Sci.Technol. 13(6) 2682-2687 1995年
Practical Phase-shifting Mask Technology for 0.3 μm Large Scale Integration

N.Moriuchi, M.Hoga, Y.Koizumi, O.Suga, H.Nakaune, K.Kamiyama, N.Hasegawa, F.Murai, F.Itoh

J.Vac.Sci.Technol. 12(6) 3799-3803 1994年
Application of a High-throughput Electron-beam System for 0.3 μm Large Scale Integration

M.Kato, H.Hayakawa, K.Sato, K.Hasegawa, Y.Sakitani, N.Saitou, F.Murai, H.Shiraishi, S.-i.Uchino

J.Vac.Sci.Technol. 12(6) 3440-3443 1994年
空間フィルタオンマシン描画装置の開発

秋山伸幸, 芹澤正芳, 井古田まさみ, 高見勝巳, 江間正悟

精密工学会誌 59(7) 1114-1120 1993年
Precise Linewidth Measurement Using a Scanning Electron Probe

S.Yamada, A.Miura, K.Takamoto, T.Ohtaka

IEICE.Trans.Electron. E76-C(4) 600-606 1993年
空間フィルタを用いたウエハ異物検出技術

秋山伸幸, 井古田まさみ, 高見勝巳

精密工学会誌 58(11) 1909-1914 1992年
差画像検出方式異物検査装置の開発

秋山伸幸, 中田俊彦, 牧平担, 芹澤正芳, 土井秀明, 野副真理, 井古田まさみ, 細江卓朗, 近松秀一, 神宮孝広 …

精密工学会誌 57(11) 1955-1960 1991年
APPLICATION AND EVALUATION OF DIRECT-WRITE ELECTRON-BEAM FOR ASICS

M FUJITA, K SHIOZAWA, T KASE, H HAYAKAWA, F MIZUNO, R HARUTA, F MURAI, S OKAZAKI

IEEE JOURNAL OF SOLID-STATE CIRCUITS 23(2) 514-519 1988年4月
Automatic End-Point Detection of Spray Etching in Application to Mask Making

M.Kato, T.Koizumi, Y.Takehana, K.Sugawara, K.Mori

J.Electrochem.Soc. 132(6) 1495-1496 1985年
Loading Effect of Ashing Rate Observed in Cr Mask Fabrication

Y.Okamoto, M.Kato, K.Sugawara

J.Electrochem.Soc. 132(9) 2295-2296 1985年
Failure Analysis of LSI Using a Scanning Low-Energy Electron Probe

S.Mori, K.Satoh, K.Kanda, H.Todokoro

J.Vac.Sci.Technol. 19(4) 1019-1023 1981年
Development and Application of Electron Beam Lithography Systems

Y.Sakitani, M.Houga

Hitachi Review 40(6) 373-376

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書籍等出版物

はじめての半導体計測

工業調査会 2008年3月
図解半導体基礎

科学出版社 2007年3月
半導体がわかる本

オーム社 2005年6月
FE-SEMによるナノ構造観察

リアライズ 2000年2月
Lithography

Springer-Verlag 1998年7月
リソグラフィ

リアライズ 1995年2月
露光

サイエンスフォーラム 1992年3月
イオン注入・アニール技術と酸化技術

トリケップス 1991年11月
i 線リソグラフィ

工業調査会 1990年8月
電子線（EB)直接描画技術の方式と特徴

サイエンスフォーラム 1990年3月

講演・口頭発表等

A New Technique for Determining Electron-Beam Tilt Angle and Depth-of-Focus in Scanning Electron Microscopy

EIPBN '05 2005年
Impacts of Tip Tilting on Measurement Uncertainty in Scanning Probe Microscopy

EIPBN '04 2004年
Mechanical-Property Measurements of Thin Films Using High-Accelerating Voltage Scanning Electron Microscopy

EIPBN '04 2004年
Critical Dimension Measurements of Photomasks Using a High-Energy Electron Beam

EIPBN '03 2003年
Defect Budget Trend Model for Future Device Manufacturing

ISSM 2002 2002年
Depth of Field at High Magnification of Scanning Electron Microscopes

EIPBN 2000 2000年
A Method for Yield Prediction Using a SEM-ADC

EOS/SPIE Microelectronic Manufacturing '99 1999年
In-line Inspection Optimization Using an Yield Management System

SPIE Microelectronic Manufacturing '98 1998年
Evaluation of the Total Uncertainty of CD Measurement Using CD-SEMｓ

EIPBN '98 1998年
Long-term Stability of CD-SEMｓ Using a Calibration Standard

EIPBN '97 1997年
Effects of Electron Beam Parameters on Critical Dimension Measurement

EIPBN '96 1996年
Effects of Electron Beam Current with Linewidth Measurement

EIPBN '95 1995年
Study on Irradiation Damage to Semiconductor Devices by 200 keV Electrons Caused by BEASTLI Methd

SPIE '95 1995年
Requirements for High Throughput e-beam Direct Writing

International Workshop on Charged Particle Lithography 1994年
A Practical Phase-shifting Mask Technology to 0.3μm LSIs

EIPB '94 1994年
Practical Method of Phase-shifting Mask Fabrication

Photomask Japan '94 1994年
Ultra-high Resolution In-lens Type Wafer Inspection System

SPIE '94 1994年
Application of a High-throughput Electron-beam System to 0.3μm LSIs

EIPB '94 1994年
Observation of Deep Holes Using New Technique

SPIE '93 1993年
New 5× i-line Projection Aligner for VLSI Fabrication

SPIE '88 1988年

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電子情報通信学会

Works(作品等)

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