産業財産権

特許権

Si薄膜の作製方法

  • 中嶋 一雄
  • ,
  • 宇佐美 徳隆
  • ,
  • 宇治原 徹
  • ,
  • 藤原 航三

出願番号
特願2003-167493
出願日
2003年6月12日
特許番号/登録番号
特許第3978494号
登録日
発行日
2007年7月6日