本研究では、将来のデジタルモバイル機器用の高周波対応、高電気抵抗、高透磁率の磁性粒子を作製するため、高透磁率の強磁性アモルファスサブマイクロ粒子（AFBS）を化学的方法により作製し、その表面をフェライトめっき法によって電気抵抗の高いNiZnフェライトナノ粒子（NZF）をコートしたハイブリッド磁性粒子（ANC）の開発を目的とした。その結果、超音波撹拌とオレイン酸ナトリウムの添加により高分散AFBSの作製に成功した。また、NZFコートしたANCも目標以上の電気抵抗率を示した。さらに、ANCのポリマー複合体は、高い比透磁率は示さなかったが、電気抵抗率が高く、電磁波吸収特性も既存材料と同等であった。