黄 致元
ファン チオン (Chi-Won HWANG)
更新日: 2020/04/29
基本情報
- 所属
- インテル株式会社 開発・製造技術本部 材料開発エンジニア
- 学位
-
修士(工学)(大阪大学)
- J-GLOBAL ID
- 200901066185857688
- researchmap会員ID
- 1000366561
研究キーワード
3学歴
4-
- 2004年
-
- 2001年
-
- 2001年
MISC
12-
JOM 56(6) 39-43 2004年6月
-
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A-STRUCTURAL MATERIALS PROPERTIES MICROSTRUCTURE AND PROCESSING 373(1-2) 187-194 2004年5月
-
Mater. Trans. 47 714 2004年
-
J. Electron. Mater. 33 p.1200 2004年
-
ACTA MATERIALIA 51(11) 3185-3197 2003年6月
-
Y.S. Kim, K.S. Kim, C.W. Hwang, and K. Suganuma 352 226 2003年
-
J. Electron. Mater. 32(2) 52-62 2003年
-
J. Mater. Res. 18(5) 1202-1210 2003年
-
J. Electron. Mater. 32(11) 1249-1256 2003年
-
J. Mater. Res. 18(11) 2540-2543 2003年
-
J. Electron. Mater. 32, 52 2003年
-
C.W. Hwang, K. Suganuma, E. Saiz, and A.P. Tomsia 30 167 2001年
書籍等出版物
3所属学協会
2Works(作品等)
1共同研究・競争的資金等の研究課題
2-
連携開発研究 2004年
-
0037 (Japanese Only) 2004年