産業財産権

特許権

薄膜パターン形成装置及び電子回路装置(内容;各種電子デバイス(LSI,高密度回路基板、TFT、各種フラットパネルディスプレイ、光導波路回路基板、等)の回路パターンのドライ形成法)


日本特許特願2002-211761号