松下雅樹 (Masaki Matsushita) - マイポータル

基本情報

Ar・CH₄・SF₆混合ガスプラズマCVDによる炭素・硫黄混合膜作成

社団法人電子情報通信学会信学技報 OME(99-122) 51-56 2000年
プラズマCVD法によるC-S薄膜の作成

電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティ E83-C(7) 1134-1138 2000年
RF plasma CVD of C-S compound under hydrogen dilution

Abul Kashem, Masaki Matsushita, Shinzo Morita

Journal of Photopolymer Science and Technology 13(1) 47-49 2000年
Carbon-Sulfur Compound Films Formed by Plasma CVD touse Ar・CH₄・SF₆ Mixture gas

The INSTITUTE OF ELECTRONICS, INFORMATION AND COMMUNICATION ENGINEERS, TECHNICAL REPORT OF IEICE OME(99-122) 51-56 2000年
C-S Thin Films Formed by Plasma CVD

IEICE TRANSACTIONS on Electronics E83-C(7) 1134-1138 2000年
Photoinduced electro-motive-force of sulfur doped plasma CVD methane film

M Matsushita, MZ Bin Harun, S Morita

THIN SOLID FILMS 345(1) 71-74 1999年5月
硫黄混入プラズマCVDメタン薄膜の光起電力

345 71-74 1999年
Chemistry of Sulfur Doping Mechanism in Amorphous Carbon by Plasma CVD of Methane

Matsushita Masaki, Harum Mohd Zarid Bin, Kashem Abul, Morita Shinzo

Journal of Photopolymer Science and Technology 12(1) 11-14 1999年
Effects of O_2 and SF_6 on CH_4 Plasma CVD Film

MATSUSHITA M.

J. Photopolym. Sci. Tech. 11(2) 257-261 1998年