産業財産権

特許権

シリコン薄膜または同位体濃縮シリコン薄膜の製造方法

山田 洋一, 山本 博之, 大場 弘則, 江坂 文孝, 山口 憲司, 社本 真一, 横山 淳, 北條 喜一, 笹瀬 雅人, 鵜殿 治彦
  • 山田, 洋一
  • ,
  • 山本, 博之
  • ,
  • 大場, 弘則
  • ,
  • 江坂, 文孝
  • ,
  • 山口, 憲司
  • ,
  • 社本, 真一
  • ,
  • 横山, 淳
  • ,
  • 北條, 喜一
  • ,
  • 笹瀬, 雅人
  • ,
  • 鵜殿, 治彦

出願番号
特願2007-149102.
出願日
2007年