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山田 洋一
ヤマダ ヨウイチ (Yoichi Yamada)
更新日: 02/01
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産業財産権
産業財産権
5
表示件数
50件
20件
50件
100件
特許第6197165号 (JP 6197165 B) 原子内包フラーレンの精製方法、及び、原子内包フラーレン薄膜
山田,洋一
特開2010-18504(p2010-18504A) Si(110)表面の一次元ナノ構造及びその製造方法
山田洋一, 朝岡秀人, 山本博之, 社本真一
特願2008-182426号 Si(110)表面の一次元ナノ構造及びその製造方法
山田洋一, 朝岡秀人, 山本博之, 社本真一
特願2007-149102. シリコン薄膜または同位体濃縮シリコン薄膜の製造方法
山田, 洋一, 山本, 博之, 大場, 弘則, 江坂, 文孝, 山口, 憲司, 社本, 真一, 横山, 淳, 北條, 喜一, 笹瀬, 雅人, 鵜殿, 治彦
特願2007-043425号 純ボロンナノベルトを用いた放射線検出方法及び検出器
桐原, 和大, 川口, 健二, 清水, 禎樹, 佐々木, 毅, 越崎, 直人, 木村, 薫, 社本, 真一, 山田, 洋一, 山本, 博之
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