受賞

2001年3月

Journal of Photopolymer Science and Technology Award

Yoshiyuki Yokoyama, Takashi Hattori, Kaori Kimura, Toshihiko Tanaka, Hiroshi Shiraishi

タイトル: Design of novel ArF negative resist system for phase-shifting lithography using androsterone structure with δ-hydroxy acid
受賞国・地域: 日本

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