Keigo Hoshikawa

• 1992

  - 信州大学 教育学部 教授 
• 1990

  - 東北大学 金属材料研究所 助教授 
• 1987

  - NTTLSI研究所 主幹研究員 

• - 1969

  Shinshu University 
• - 1967

  Shinshu University Faculty of Engineering 
• - 1967

  Shinshu University Faculty of Engineering 

• 日本結晶成長学会 バルク成長分科会幹事長 
• 応用物理学会 欧文誌(Jpn.J.Appl.Phsy)論文編集委員 

• 1992

  日本結晶成長学会論文賞  
• 1987

  大河内記念技術賞  
• 1985

  日本金属学会技術開発賞  
• 1982

  新技術開発事業団井上春成賞  

• Dynamic behavior of oxygen, heavily doped other impurities and grown-in defect in the Czochralski Si crystal growth: K.Hoshikawa,X.Huang, S.Sakai,S.Oishi,T.Taishi and K.Yamahara, The Fifth Symposium on Atomic-Scale Surface and Interface Dinamics, Tokyo・・・ 

    

• 「実験物理学講座４;試料作製技術」 

  2000 
• 「現代エレクトロニクスを支える単結晶成長技術」 

  培風館  1999 
• 「バルク結晶成長技術」 

  1995 

• 日本教育工学会 
• 日本産業技術教育学会 
• 米国電気化学会（ＥＣＳ） 
• 日本結晶成長学会 
• 日本金属学会 

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