伊藤 隆司

J-GLOBALへ         更新日: 16/05/13 17:59
 
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研究者氏名
伊藤 隆司
 
イトウ タカシ
学位
工学博士(東京工業大学), 工学修士(東京工業大学)

研究分野

 
 

経歴

 
 
   
 
東京工業大学 ソリューション研究機構 教授,産業技術総合研究所
 
2003年
 - 
2004年
富士通株式会社 技師長、兼あきる野テクノロジセンター長、兼産業技術総合研究所先端SOC連携研究体長
 
2001年
 - 
2003年
株式会社富士通研究所シリコンテクノロジ研究所長
 

学歴

 
 
 - 
1974年
東京工業大学 工学研究科 電子工学専攻
 
 
 - 
1971年
東京工業大学 工学研究科 電子工学専攻
 
 
 - 
1969年
東京工業大学 理工学部 電子工学科
 

委員歴

 
1993年
 - 
1994年
電子情報通信学会  シリコン材料・デバイス研究専門委員長
 
1995年
 - 
1996年
電子情報通信学会  理事
 
1998年
   
 
米国電気化学協会  日本支部幹事
 

受賞

 
2006年
山崎貞一賞
 
2000年
大河内記念技術賞
 
1996年
オーム技術賞
 
1980年
渡辺記念研究奨励賞
 
2009年
応用物理学会フェロ表彰
 

Misc

 
Encyclopedia of Nanoscience and Nanotechnology
DEKKER      2004年
New Elevated Source/Drain for NMOS Process Using Chlorine Gas Etching
Journal of IEICE , C   J91-C(7) 363-369   2008年
SUZUKI Katsumasa, ISHIHARA Yoshio, SAKODA Kaoru, SHIRAI Yasuyuki, TERAMOTO Akinobu, HIRAYAMA Masaki, OHMI Tadahiro, WATANABE Takayuki, ITO Takashi
J. Vac. Sci. Technol.   27(3) 465   2009年

書籍等出版物

 
ULSIデバイスプロセス技術
1995年   
VLSIの薄膜技術
1986年   
次世代ICタグ
株式会社エヌ・テー・エス   2006年   
次世代ULSIプロセス技術
2000年   
Contamination Control and Defect Reduction in Semiconductor Manufacturing
Electrochemical Society, Inc.   1994年   

Works

 
低コスト・ユビキタスチップの研究
2005年 - 2007年
低コスト・ユビキタスチップの開発
2005年 - 2007年
高効率通信処理技術の研究
2006年
マイクロバブル洗浄用添加剤の気泡微細化機構に関する研究
2007年
高濃度オゾン応用技術
2007年 - 2008年

競争的資金等の研究課題

 
薄膜トランジスタを用いる高機能RFIDユビキタスチップ
研究期間: 2004年   
配線層に知的演算機能を持つ3次元LSIの研究
研究期間: 2004年   
CMOS高性能化のためのシリコン表面制御の研究
研究期間: 2004年   

特許

 
半導体装置のドライクリーニング方法
特許2874241
半導体基板のドライ洗浄方法
特許2874259
半導体装置の製造方法
特許2656945
金属配線の形成方法
特許2558128
金属配線の形成方法
特許2558127