清水貴思 (Takashi Shimizu) - マイポータル

基本情報

外部リンク: http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=T77360694

超臨界流体を用いた微細構造上への酸化物薄膜の堆積

Extended Abstract(52th Spring Meeting, 2005); The Japan Society of Applied Physics 2 727-727 2005年
Electrical properties of ruthenium/metalorganic chemical vapor deposited La-oxide/Si field effect transistors

T Shimizu, K Ishii, E Suzuki

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 42(11A) L1315-L1317 2003年11月
MOCVD of high-dielectric-constant lanthanum oxide thin films

H Yamada, T Shimizu, A Kurokawa, K Ishii, E Suzuki

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY 150(8) G429-G435 2003年8月
Interface reaction of a silicon substrate and lanthanum oxide films deposited by metalorganic chemical vapor deposition

H Yamada, T Shimizu, E Suzuki

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 41(4A) L368-L370 2002年4月
In-situ work function measurement of molecular beam epitaxy film surface using RHEED-beam excited secondary electron peaks

Nonaka H., Shimizu T., Arai K., Kurokawa A., Ichimura S.

JOURNAL OF SURFACE ANALYSIS 9(3) 344-347 2002年