2008年3月31日
Coverage properties of SiNx films prepared by catalytic chemical vapor deposition on trenched substrates below 80 C
Thin Solid Films
- ,
- ,
- ,
- ,
- ,
- ,
- ,
- 巻
- 516
- 号
- 10
- 開始ページ
- 3000
- 終了ページ
- 3004
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究論文(学術雑誌)
- DOI
- 10.1016/j.tsf.2007.11.001
- ID情報
-
- DOI : 10.1016/j.tsf.2007.11.001
- ISSN : 0040-6090
- SCOPUS ID : 39649114070