論文

査読有り
2008年3月31日

Coverage properties of SiNx films prepared by catalytic chemical vapor deposition on trenched substrates below 80 C

Thin Solid Films
  • A. Heya
  • ,
  • T. Minamikawa
  • ,
  • T. Niki
  • ,
  • S. Minami
  • ,
  • A. Masuda
  • ,
  • H. Umemoto
  • ,
  • N. Matsuo
  • ,
  • H. Matsumura

516
10
開始ページ
3000
終了ページ
3004
記述言語
英語
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
DOI
10.1016/j.tsf.2007.11.001

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2007.11.001
ID情報
  • DOI : 10.1016/j.tsf.2007.11.001
  • ISSN : 0040-6090
  • SCOPUS ID : 39649114070

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