特許権 マイクロ電極の電極表面の処理方法、表面処理マイクロ電極の製造方法及び表面処理マイクロ電極 国立研究開発法人産業技術総合研究所 池上 真志樹, 平野 悠, 小松 康雄 出願番号 特願2015-093240 出願日 2015年4月30日 公開番号 特開2016-211882 公開日 2016年12月15日 リンク情報 J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201703013833662948URLhttp://jglobal.jst.go.jp/public/201703013833662948 ID情報 J-Global ID : 201703013833662948
