基本情報

所属
東北大学 流体科学研究所 附属未到エネルギー研究センター 混相流動エネルギー研究分野 教授
学位
博士(工学)(Tohoku University)

J-GLOBAL ID
200901054460228469

外部リンク

研究キーワード

  5

論文

  152

書籍等出版物

  1

講演・口頭発表等

  71

学術貢献活動

  1

社会貢献活動

  3

メディア報道

  8

その他

  22
  • 2011年11月 - 2011年11月
    半導体製造工程においては電子基板のフォト製版工程で不要になったレジストを除去する必要があり、現在はコストが高く人体に極めて有害な薬液が大量に使用されている.半導体洗浄に関しては,アンモニア過酸化水素水を用いたWet洗浄プロセスが一般的であるが,最近の高集積デバイスに対してこのようなエッチングによるリフトオフを用いた洗浄法は適用限界に近づきつつある.これに対し,ドライ洗浄法の一例として低温エアロゾル洗浄がケミカルフリーな洗浄法として提案されているが,これは液体窒素の断熱膨張のみを利用した固体窒素粒子形成法を用いており,基本的なアッシングプロセスが終了した後の不要微小固体粒子を窒素粒子で吹き飛ばすのみで,生成固体窒素粒子の除去性能は弱く,レジストをはく離するまでの力学的性能を有せず,粒径や数密度の制御が不安定という難点を有する.そこで,これら従来型の化学反応プロセスに依存した洗浄法の有する欠点を解決しうる,新しい発想から成る新型アッシングレス・ドライ洗浄システムの開発が強く望まれている. このような現状に対し,本研究により開発を目指しているマイクロ・ナノソリッドジェット利用型アッシングレスレジストはく離・除去システムは,マイクロ・ナノソリッド粒子の運動力学的高速衝突と極低温粒子流の有する超高熱流束特性を利用し,従来のケミカルWet洗浄の有する適用限界を打破しうる完全ケミカルフリー,純水フリータイプ,ドライ型レジストはく離・洗浄システムを開発しようとしている点に新規性・優位性を有する.
  • 2011年10月 - 2011年10月
    マイクロ・ナノ固体粒子噴霧流を用いた半導体スーパー洗浄
  • 2010年10月 - 2010年10月
    過冷却液体窒素と極低温ヘリウムガス(寒剤)の高速衝突により連続生成される微細固体窒素粒子から成るマイクロ・ナノスラッシュ噴霧流の有する超高熱流束冷却特性とそれに伴うレジスト熱収縮効果を有効活用した新型半導体洗浄法に関する検討を行う.マイクロスラッシュ噴霧を高温加熱ウエハー面上のレジストに高速衝突させ,粒子の慣性力と噴霧の熱流体力学的効果,超高熱流束急冷によるレジスト熱収縮効果の相互作用により,アッシングプロセスを経ずにレジストをウエハー面上からはく離・除去,洗浄するという,レジスト除去・洗浄同時プロセス機構から成るドライ型アッシングレス洗浄システムを開発する.その結果,マイクロ・ナノスラッシュジェットの衝突による物理的レジストはく離と超高熱流束急冷による熱収縮の相乗効果を利用し,フォトレジストの一部をはく離することに成功した.加熱無しの場合,レジストはく離には至らないことから,レジストはく離に及ぼす熱収縮効果の影響はかなり大きいことを明らかにした.
  • 2010年1月 - 2010年1月
    マイクロ・ナノスラッシュ噴霧による新型半導体洗浄方式の開発
  • 2009年11月 - 2009年11月
    スラッシュ超高熱流束プロセッサの研究