論文

査読有り
2013年8月

Simulation Analysis of the Characteristics of a High Magnification Imaging Optics for the Observation of Extreme Ultraviolet Lithography Mask to Predict Phase Defect Printability

Jpn. J. Appl. Phys.
  • Tsuneo Terasawa
    • ,
  • Yukiyasu Arisawa
    • ,
  • Tsuyoshi Amano
    • ,
  • Takeshi Yamane
    • ,
  • Hidehiro Watanabe
    • ,
  • Mitsunori Toyoda
    • ,
  • Tetsuo Harada
    • ,
  • Hiroo Kinoshita
巻
52
号
開始ページ
096601
終了ページ
記述言語
英語
掲載種別
研究論文（学術雑誌）
DOI
10.7567/JJAP.52.096601
7861
リンク情報
DOI
https://doi.org/10.7567/JJAP.52.096601
ID情報
  • DOI : 10.7567/JJAP.52.096601
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